2.5D双面IML注塑件及其注塑模具和注塑方法-复审决定


发明创造名称:2.5D双面IML注塑件及其注塑模具和注塑方法
外观设计名称:
决定号:180351
决定日:2019-05-22
委内编号:1F270626
优先权日:
申请(专利)号:201610374065.1
申请日:2016-05-31
复审请求人:浙江兆奕科技有限公司
无效请求人:
授权公告日:
审定公告日:
专利权人:
主审员:曾雪莲
合议组组长:马莹莹
参审员:吴兴华
国际分类号:H05K5/02;B29C45/26;B29C45/16;B29C45/14
外观设计分类号:
法律依据:专利法第22条第3款
决定要点:如果一项权利要求与一篇对比文件相比具有多个区别特征,另一篇对比文件公开了部分区别特征,且其在另一篇对比文件中所起的作用与该区别特征在本申请所起的作用相同,其余区别特征属于本领域的公知常识,则现有技术整体上给出了解决本申请所要解决的技术问题的技术启示,从而该权利要求不具备创造性。
全文:
本复审请求审查决定涉及申请号为201610374065.1,名称为“2.5D双面IML注塑件及其注塑模具和注塑方法”的发明专利申请(下称本申请)。申请人为浙江兆奕科技有限公司。本申请的申请日为2016年05月31日,公开日为2016年09月07日。
经实质审查,国家知识产权局原审查部门于2018年11月02日发出驳回决定,驳回了本申请,其理由是:权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定所依据的文本为:申请日2016年05月31日提交的说明书第1-27段(即第1-4页),说明书附图第1-2页,说明书摘要和摘要附图;2018年10月17日提交的权利要求第1项。驳回决定所针对的权利要求书内容如下:
“1. 一种2.5D双面IML注塑件的注塑模具,注塑件,包括正面基膜、背面基膜以及设置在正面基膜和背面基膜之间的树脂层,所述正面基膜与树脂层之间设有正面印刷层,所述背面基膜另一侧设有背面印刷层,所述正面印刷层与树脂层之间通过正面粘结剂层连接,所述背面基膜与背面印刷层之间通过背面粘结剂层连接,所述正面印刷层包括正面LOGO层,所述背面印刷层包括背面LOGO层、纹理层和色彩层;
所述正面基膜外侧设有正面HC层,所述背面基膜与背面粘结剂层之间设有背面HC层;
所述正面基膜和背面基膜均为film膜,所述正面HC层和背面HC层均为UV层;
所述正面印刷层和背面印刷层均为油墨层,所述正面粘结剂层和背面粘结剂层均为树脂粘结剂层
其特征在于:其包括母模和公模以及设置母模内的母模型腔和设置在公模内的公模型腔,所述母模型腔和公模型腔合模后的形状与注塑件的形状相匹配;
所述母模型腔的大小形状与背面基膜、背面印刷层和背面粘结剂层复合后的大小形状相匹配,所述公模型腔的大小形状与正面基膜、正面印刷层和正面粘结剂层复合后的大小形状相匹配。”
驳回决定引用如下对比文件:
对比文件1:CN203623081U,公告日为2014年06月04日;
对比文件2:CN103753757A,公开日为2014年04月30日。
驳回决定主要指出:权利要求1与对比文件1相比,区别特征在于:(1)权利要求1中的背面印刷层设置在背面基膜的下方,且两者之间通过背面粘结剂层连接,背面印刷层还包括纹理层和色彩层;(2)正面基膜外侧设有正面HC层,所述背面基膜与背面粘结剂层之间设有背面HC层,所述正面基膜和背面基膜均为film膜,所述正面HC层和背面HC层均为UV层,正面粘结剂层和背面粘结剂层均为树脂粘结剂层;(3)包括母模和公模以及设置母模内的母模型腔和设置在公模内的公模型腔,所述母模型腔和公模型腔合模后的形状与注塑件的形状相匹配;所述母模型腔的大小形状与背面基膜、背面印刷层和背面粘结剂层复合后的大小形状相匹配,所述公模型腔的大小形状与正面基膜、正面印刷层和正面粘结剂层复合后的大小形状相匹配。然而,上述区别特征(1)和(2)是本领域的公知常识,区别特征(3)的一部分已被对比文件2公开,其余部分是本领域的公知常识,因此权利要求1相对于对比文件1和对比文件2以及本领域的公知常识不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人(下称复审请求人)对上述驳回决定不服,于2019年01月09日向国家知识产权局提出了复审请求,但是未对申请文件进行修改。复审请求人认为:对比文件1和对比文件2都没有公开区别特征“所述正面基膜外侧设有正面HC层,所述背面基膜与背面粘结剂层之间设有背面HC层,所述正面基膜和背面基膜均为film膜,所述正面HC层和背面HC层均为UV层”,该特征也不属于本领域惯用手段和公知常识,采用对比文件1和对比文件2中的技术方案后不能满足硬度大于4H/1kg、耐磨测试超过2500次/kg的要求,同时存在摔落后容易开裂的问题。
经形式审查合格,国家知识产权局于2019年01月23日依法受理了该复审请求,并将其转送至实质审查部门进行前置审查。
实质审查部门在前置审查意见书中认为:复审请求人争辩的区别特征是本领域的公知常识,争辩的技术效果在原说明书中未记载,因而坚持驳回决定。
随后,国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年03月13日向复审请求人发出复审通知书,该复审通知书所针对的文本与驳回决定所针对的文本相同,即,申请日2016年05月31日提交的说明书第1-4页,说明书附图第1-2页,说明书摘要和摘要附图;2018年10月17日提交的权利要求第1项。该复审通知书所引用的对比文件与驳回决定所引用的对比文件也相同,即对比文件1和对比文件2。该复审通知书指出:权利要求1与对比文件1的区别特征在于:(1)背面基膜另一侧设有背面印刷层,所述背面基膜与背面印刷层之间通过背面粘结剂层连接,所述背面印刷层还包括纹理层和色彩层;(2)正面基膜外侧设有正面HC层,所述背面基膜与背面粘结剂层之间设有背面HC层,所述正面基膜和背面基膜均为film膜,所述正面HC层和背面HC层均为UV层,所述正面粘结剂层和背面粘结剂层均为树脂粘结剂层;(3)包括母模和公模以及设置母模内的母模型腔和设置在公模内的公模型腔,所述母模型腔和公模型腔合模后的形状与注塑件的形状相匹配;所述母模型腔的大小形状与背面基膜、背面印刷层和背面粘结剂层复合后的大小形状相匹配,所述公模型腔的大小形状与正面基膜、正面印刷层和正面粘结剂层复合后的大小形状相匹配。然而,上述区别特征(1)和(2)是本领域的公知常识,区别特征(3)的一部分已被对比文件2公开,其余部分是本领域的公知常识,因此权利要求1相对于对比文件1和2以及本领域的公知常识不具备专利法第22条第3款规定的创造性。同时合议组还针对复审请求意见进行了回应。
复审请求人于2019年04月19日提交了复审无效宣告程序意见陈述书,未修改申请文件。复审请求人认为:(1)采用对比文件1和对比文件2中的技术方案后不能满足硬度大于4H/1kg、耐磨测试超过2500次/kg的要求,同时存在摔落后容易开裂的问题;(2)权利要求1与对比文件1的区别特征为“所述正面基膜外侧设有正面HC层,所述背面基膜与背面粘结剂层之间设有背面HC层,所述正面基膜和背面基膜均为film膜,所述正面HC层和背面HC层均为UV层”,上述区别特征没有在对比文件2中公开,也不属于本领域惯用手段和公知常识。
在上述程序的基础上,合议组认为本案事实已经清楚,可以作出审查决定。
二、决定的理由
审查文本的认定
复审请求人在提交复审请求以及于2019年04月19日提交复审无效宣告程序意见陈述书时都未修改申请文件。本复审请求审查决定所针对的文本为:申请日2016年05月31日提交的说明书第1-4页,说明书附图第1-2页,说明书摘要和摘要附图;2018年10月17日提交的权利要求第1项。
关于创造性
专利法第22条第3款规定:创造性,是指与现有技术相比,该发明具有突出的实质性特点和显著的进步,该实用新型具有实质性特点和进步。
本复审请求审查决定引用的对比文件与驳回决定、复审通知书引用的对比文件相同,即:
对比文件1:CN203623081U,公告日为2014年06月04日;
对比文件2:CN103753757A,公开日为2014年04月30日。
权利要求1请求保护一种2.5D双面IML注塑件的注塑模具,对比文件1公开了一种双面IML模内覆膜,并具体公开了如下技术特征(参见说明书第[0013]-[0015]段,图1):包括基膜层1(相当于基膜)、油墨层2(相当于印刷层)及覆膜层3,其中的覆膜层3采用ABS膜层(相当于树脂层)或其他适用材料,所述覆膜层3两侧对称的依次设置有油墨层2(相当于正面印刷层和背面印刷层均为油墨层)、基膜层1(相当于正面基膜和背面基膜,树脂层设置在正面基膜和背面基膜之间),油墨层2包括图案层21、粘结层22(相当于粘接剂层);图1所示,在覆膜层3的上方,油墨层2(相当于正面印刷层)设置在基膜层1和覆膜层3之间(相当于所述正面基膜与树脂层之间设有正面印刷层),通过粘结层22与覆膜层3连接(相当于所述正面印刷层与树脂层之间通过正面粘结剂层连接);在覆膜层3的下方,油墨层2(相当于背面印刷层)设置在基膜层1(相当于背面基膜)和覆膜层3之间,所述油墨层2的图案层21(相当于logo层),可以形成双层图案层(相当于正面印刷层包括正面logo层,背面印刷层包括背面logo层)。
权利要求1请求保护的技术方案与对比文件1相比,其区别特征在于:(1)背面基膜另一侧设有背面印刷层,所述背面基膜与背面印刷层之间通过背面粘结剂层连接,所述背面印刷层还包括纹理层和色彩层;(2)正面基膜外侧设有正面HC层,所述背面基膜与背面粘结剂层之间设有背面HC层,所述正面基膜和背面基膜均为film膜,所述正面HC层和背面HC层均为UV层,所述正面粘结剂层和背面粘结剂层均为树脂粘结剂层;(3)包括母模和公模以及设置母模内的母模型腔和设置在公模内的公模型腔,所述母模型腔和公模型腔合模后的形状与注塑件的形状相匹配;所述母模型腔的大小形状与背面基膜、背面印刷层和背面粘结剂层复合后的大小形状相匹配,所述公模型腔的大小形状与正面基膜、正面印刷层和正面粘结剂层复合后的大小形状相匹配。基于上述区别特征所能达到的技术效果可以确定,权利要求1实际解决的技术问题是在双面注塑中,如何设置印刷层,如何更好的保护基膜并提高注塑件的抗碎裂性,以及如何设置相应的模具。
针对区别特征(1),在双面注塑时,将背面印刷层设置在背面基膜的下方,且两者之间通过背面粘结剂层连接,以及根据需要将背面印刷层设置成除了LOGO层外还包括纹理层和色彩层均是本领域技术人员为了达到更好的立体效果而采用的惯用手段和常规设置,属于本领域公知常识。
针对区别特征(2),在IML工艺中,采用薄而软的透明薄膜(film膜)作为基膜是本领域技术人员的常规选择;为了保护图案不被划伤并提高产品的表面硬度、耐磨性和抗碎裂性,利用UV材料在基膜上方或下方设置HC层以及利用树脂材料作为粘结剂层均是本领域技术人员的惯用手段,属于本领域公知常识。
针对区别特征(3),对比文件2公开了一种复合面板的双面覆膜成型设备,并具体公开了如下技术特征(参见说明书第[0010]-[0012]、[0017]-[0020]段,图1-3):包括定模1(相当于公模)和动模6(相当于母模),在定模1上开设有成型模腔11(相当于设置在公模内的公模型腔),成型膜腔大小与正面膜片大小一样;在正面膜片和背面膜片上印刷图案层,在正面膜片和背面膜片的图案层上印刷粘合层,对正面膜片和背面膜片进行预成形:将正面膜片加热成形与最终成形的弯曲复合面板形状基本一致的弯曲形状,并且对正面膜片进行冲切,冲切成与最终成形的复合面板大小一致的形状(相当于公模型腔的大小形状与正面基膜、正面印刷层和正面粘结剂层复合后的大小形状相匹配);对背面膜片进行冲切,然后,将正面膜片放置于模具的定模1并进行定位,将背面膜片放置于模具的动模6并进行定位(相当于所述母模型腔的大小形状与背面基膜、背面印刷层和背面粘结剂层复合后的大小形状相匹配),使正面膜片和背面膜片通过一次注塑成型粘贴于树脂基材上,即注塑时产生高温,通过粘合层的高温粘合油墨将膜片与注塑的树脂基材粘合在一起,图1所示,定模1和动模6合模后的形状与注塑后的复合面板的形状相匹配(相当于所述母模型腔和公模型腔合模后的形状与注塑件的形状相匹配),且上述特征在对比文件2中的作用也是提供一种用于注塑正面基膜和背面基膜的注塑模具,也就是说,对比文件2给出了将上述特征应用于对比文件1以解决其技术问题的启示。另外,在母模内设置母模型腔以放置背面基膜是本领域的惯用手段,属于本领域的公知常识。因此,本领域技术人员有动机将对比文件2中所公开的定模和动模应用于对比文件1的双面IML模内覆膜工艺,并结合本领域的惯用手段在母模内设置母模型腔以放置背面基膜,从而得到本申请所请求保护的一种2.5D双面IML注塑件的注塑模具,其不需要付出创造性的劳动,且效果可以预期。
由此可知,在对比文件1的基础上结合对比文件2和本领域的公知常识得出该权利要求的技术方案,对本技术领域的技术人员来说是显而易见的,因此该权利要求所请求保护的技术方案不具有突出的实质性特点和显著的进步,因而不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
对复审请求人相关意见的说明
针对复审请求人于2019年04月19日提交的复审无效宣告程序意见陈述书中的意见,合议组认为:
首先,film膜,即薄膜,是一种薄而软的透明薄片,被广泛应用于电子电器、印刷等行业,尤其在IML工艺中,采用薄膜作为基膜是本领域技术人员的常规选择,属于公知常识;HC(hard coating)层,即表面硬化膜层或者防刮硬化膜层,主要用于附着在软性基底的表面,用于增强表面硬度,UV涂料具有防止污染及节能效果,涂饰的化学性、物理性优秀,有快速固化的特性,广泛用于生产塑胶行业,且HC层采用UV涂料不仅可以使产品表面耐摩擦、防刮花,而且可以使产品的颜色长期保持鲜明不褪色,这是本领域的公知常识,因此,为了保护本申请的注塑件的图案不被划伤并提高注塑件的强度和表面硬度,本领域技术人员采用在正面和背面基膜外侧利用UV材料制作HC层显然是本领域的常规技术手段。
其次,至于复审请求人声称的本申请的技术方案能满足“硬度大于4H/1kg、耐磨测试超过2500次/kg的要求”和“生产中的产品不良率降低50%以上,取得了良好的经济效果”,由于上述技术效果在原说明书中并未记载,且所述的性能需要材料或者结构上进行支持,本领域技术人员无法通过原申请文件记载的内容直接地、毫无疑义的确定出上述技术效果。
因此,合议组对上述陈述意见不予支持。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年11月02日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服,根据专利法第41条第2款的规定,复审请求人自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。


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