发明创造名称：用于大面积基板处理系统的加载锁定腔室
外观设计名称：
决定号：180827
决定日：2019-06-12
委内编号：1F257519
优先权日：2008-08-27
申请（专利）号：201410587106.6
申请日：2009-08-27
复审请求人：应用材料公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：吴海涛
合议组组长：宋霖
参审员：田书凤
国际分类号：H01L21/67
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点：如果一项权利要求所请求保护的技术方案相对于作为最接近现有技术的对比文件存在区别技术特征，该区别技术特征的一部分属于本领域的公知常识，另一部分在另一篇对比文件中公开，且在该最接近现有技术的对比文件的基础上结合本领域的公知常识和另一篇对比文件，得出该权利要求所请求保护的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的，则该权利要求所请求保护的技术方案不具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201410587106.6，名称为“用于大面积基板处理系统的加载锁定腔室”的发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请人为应用材料公司，申请日为2009年08月27日，优先权日为2008年08月27日，分案申请递交日为2014年10月28日，公开日为2015年03月04日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2018年05月30日发出驳回决定，以权利要求1-4不具备专利法第22条第3款规定的创造性为由驳回了本申请，其理由是：（1）对比文件3（EP0972561A2，公开日为2000年01月19日）作为最接近的现有技术时：①权利要求1相对于对比文件3的区别技术特征属于本领域的常规选择，因此权利要求1不具备创造性。②从属权利要求2的附加技术特征是本领域的常规设置，因此权利要求2也不具备创造性。③权利要求3与对比文件3的区别技术特征一部分在对比文件2（CN101145506A，公开日为2008年03月19日）中公开，另一部分属于本领域的公知常识，因此权利要求3不具备创造性。④权利要求4的附加技术特征在对比文件2中公开，因此权利要求4不具备创造性。（2）对比文件4（WO2005/055297A1，公开日为2005年06月16日）作为最近的现有技术时：①权利要求1相对于对比文件4的区别技术特征属于本领域的公知常识，因此权利要求1不具备创造性。②从属权利要求2的附加技术特征部分在对比文件4中公开、部分是本领域的公知常识，因此权利要求2也不具备创造性。③权利要求3与对比文件4的区别技术特征的一部分在对比文件2中公开、另一部分属于本领域的公知常识，因此权利要求3不具备创造性。④权利要求4的附加技术特征在对比文件2中公开，因此权利要求4不具备创造性。驳回决定所依据的文本为：申请人于分案申请递交日2014年10月28日提交的说明书摘要、说明书第1-41段、摘要附图、说明书附图图1-6；和于2018年05月09日提交的权利要求第1-4项。驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种加载锁定，包括：
可抽真空腔室，具有基板支撑件用以支撑一或多个矩形基板，所述可抽真空腔室具有形成四个角落的四个侧壁；
四个泵端口，其中每一泵端口靠近所述四个角落中的相应角落，且其中所述四个泵端口中的两个泵端口位于所述矩形基板的平面的上方的第一侧壁上，并且所述四个泵端口中的另外两个泵端口位于所述矩形基板的平面的上方的与所述第一侧壁相对的第二侧壁上；和
一个真空泵，与所有所述泵端口耦接。
2. 如权利要求1所述的加载锁定，进一步包括：
多个通气端口。
3. 一种设备，包括：
N个垂直堆栈的单一基板可抽真空加载锁定腔室，形成单一主体，其中N为大于1的整数，且各个所述加载锁定腔室具有用以支撑矩形基板的基板支撑件、形成四个角落的四个侧壁以及四个泵端口，其中各个泵端口靠近所述四个角落中的相应角落，且其中所述四个泵端口中的两个泵端口位于所述相应矩形基板的平面的上方的第一侧壁上，并且所述四个泵端口中的另外两个泵端口位于所述矩形基板的平面的上方的与所述第一侧壁相对的第二侧壁上；
一个真空泵，耦接至所有所述泵端口；以及
N-1个内壁，各个内壁将相邻的单一基板可抽真空加载锁定腔室分隔开且环境隔离。
4. 如权利要求3所述的设备，其中N是3。”
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服,于2018年08月02日向国家知识产权局提出了复审请求，并提交了修改后的权利要求书（共4项权利要求），其修改为在独立权利要求1、3中增加了技术特征“使得颗粒移出所述腔室而不会通过所述矩形基板上方”。复审请求人认为：（1）对比文件3作为最接近现有技术时，所有的公知常识证据都没有公开基板上方的侧壁上的四个泵端口的具体位置，并且泵端口使颗粒有效移出腔室而不通过基板上方。（2）对比文件4作为最接近现有技术时，其排气管道17平行于晶片表面，基于伯努利效应其腔室的颗粒会被吸引至晶片表面，并随之移出腔室；本申请权利要求1、3中的泵端口高于基板，颗粒被抬升，不会通过基板上方。提交复审请求时新修改的权利要求1、3的内容如下：
“1. 一种加载锁定，包括：
可抽真空腔室，具有基板支撑件用以支撑一或多个矩形基板，所述可抽真空腔室具有形成四个角落的四个侧壁；
四个泵端口，其中每一泵端口靠近所述四个角落中的相应角落，且其中所述四个泵端口中的两个泵端口位于所述矩形基板的平面的上方的第一侧壁上，并且所述四个泵端口中的另外两个泵端口位于所述矩形基板的平面的上方的与所述第一侧壁相对的第二侧壁上，使得颗粒移出所述腔室而不会通过所述矩形基板上方；和
一个真空泵，与所有所述泵端口耦接。”
“3. 一种设备，包括：
N个垂直堆栈的单一基板可抽真空加载锁定腔室，形成单一主体，其中N为大于1的整数，且各个所述加载锁定腔室具有用以支撑矩形基板的基板支撑件、形成四个角落的四个侧壁以及四个泵端口，其中各个泵端口靠近所述四个角落中的相应角落，且其中所述四个泵端口中的两个泵端口位于所述相应矩形基板的平面的上方的第一侧壁上，并且所述四个泵端口中的另外两个泵端口位于所述矩形基板的平面的上方的与所述第一侧壁相对的第二侧壁上，使得颗粒移出所述腔室而不会通过所述矩形基板上方；
一个真空泵，耦接至所有所述泵端口；以及
N-1个内壁，各个内壁将相邻的单一基板可抽真空加载锁定腔室分隔开且环境隔离。”
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年08月08日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中认为，（1）技术效果“颗粒移出所述腔室而不会通过所述矩形基板上方”是由特征“位于四个方向的多个真空端口”带来的，而对比文件3已经公开了“位于四个方向的四个连接分子泵15的出口14（相当于多个真空端口）”，对比文件4也已经公开了“位于多个方向的多个排气管17所在端口（相当于多个真空端口）”，本领域技术人员可以确定对比文件3或4必然也能达到颗粒移出所述腔室而不会通过所述基板上方，即隐含公开了上述新加入的特征，也已经解决了“颗粒移出腔室而不会通过基板上方来最小化基板受到颗粒污染的风险”的技术问题。（2）对比文件4的文字记载仅表示气流平行于晶片表面，本领域技术人员通过图1、4-8可以确定其已经公开了权利要求中的特征“排气管17所在端口位于所述基板W的平面的上方的侧壁上”。因而坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2018年12月26日向复审请求人发出复审通知书，指出权利要求1-4不具备专利法第22条第3款规定的创造性，理由为：（1）权利要求1、3与作为最接近现有技术的对比文件2的区别技术特征的一部分属于本领域的公知常识、另一部分被对比文件4公开，因此权利要求1、3不具备创造性 。（2）权利要求2的附加技术特征在对比文件4中公开，权利要求4的附加技术特征在对比文件2中公开，因此权利要求2、4不具备创造性。
复审请求人于2019年02月02日提交了复审无效宣告程序意见陈述书，并提交了修改后的权利要求书（包括4项权利要求），其修改为将权利要求1、2的主题名称由“一种加载锁定”修改为“一种加载锁定腔室”；在权利要求1、3中增加了技术特征“并且不会被抽吸跨越所述矩形基板”。复审请求人认为：（1）对比文件4中的腔室2是沉积腔室不涉及颗粒，而对比文件2中的是装载锁定室100，两者的颗粒水平和真空条件不同，因此对比文件4不会用于解决移出颗粒的技术问题。不会将对比文件4中的排气管17的布置应用于对比文件2中的装载锁定室100。（2）根据对比文件4的第29段的记载，气流与晶片平行，排气管17的内壁底部和晶片的表面基本相同的高度。和本申请中的泵端口的高于晶片的位置不同，导致晶片W上的颗粒首先被提升并在不通过晶片W上方的前提下移出腔室，并且不会被抽吸跨越晶片W。（3）基于伯努利效应，颗粒首先将被提升。新修改的权利要求书的内容如下：
“1. 一种加载锁定腔室，包括：
可抽真空腔室，具有基板支撑件用以支撑一或多个矩形基板，所述可抽真空腔室具有形成四个角落的四个侧壁；
四个泵端口，其中每一泵端口靠近所述四个角落中的相应角落，且其中所述四个泵端口中的两个泵端口位于所述矩形基板的平面的上方的第一侧壁上，并且所述四个泵端口中的另外两个泵端口位于所述矩形基板的平面的上方的与所述第一侧壁相对的第二侧壁上，使得颗粒移出所述腔室而不会通过所述矩形基板上方，并且不会被抽吸跨越所述矩形基板；和
一个真空泵，与所有所述泵端口耦接。
2. 如权利要求1所述的加载锁定腔室，进一步包括：
多个通气端口。
3. 一种设备，包括：
N个垂直堆栈的单一基板可抽真空加载锁定腔室，形成单一主体，其中N为大于1的整数，且各个所述加载锁定腔室具有用以支撑矩形基板的基板支撑件、形成四个角落的四个侧壁以及四个泵端口，其中各个泵端口靠近所述四个角落中的相应角落，且其中所述四个泵端口中的两个泵端口位于所述相应矩形基板的平面的上方的第一侧壁上，并且所述四个泵端口中的另外两个泵端口位于所述矩形基板的平面的上方的与所述第一侧壁相对的第二侧壁上，使得颗粒移出所述腔室而不会通过所述矩形基板上方，并且不会被抽吸跨越所述矩形基板；
一个真空泵，耦接至所有所述泵端口；以及
N-1个内壁，各个内壁将相邻的单一基板可抽真空加载锁定腔室分隔开且环境隔离。
4. 如权利要求3所述的设备，其中N是3。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
审查文本的认定
复审请求人于2019年02月02日提交了复审无效宣告程序意见陈述书，并提交了权利要求书的全文替换页（包括4项权利要求），经审查，上述修改符合专利法第33条和专利法实施细则第61条第1款的规定。因此本复审请求审查决定所依据的文本为：复审请求人于分案申请递交日2014年10月28日提交的说明书摘要、说明书第1-41段、摘要附图、说明书附图图1-6；和于2019年02月02日提交的权利要求第1-4项。
具体理由的阐述
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求所请求保护的技术方案相对于作为最接近现有技术的对比文件存在区别技术特征，该区别技术特征的一部分属于本领域的公知常识，另一部分在另一篇对比文件中公开，且在该最接近现有技术的对比文件的基础上结合本领域的公知常识和另一篇对比文件，得出该权利要求所请求保护的技术方案对本领域技术人员来说是显而易见的，则该权利要求所请求保护的技术方案不具备创造性。
本复审请求审查决定中引用的对比文件为驳回决定中的对比文件2和4，与复审通知书中的相同，即：
对比文件2：公开号为CN101145506A，公开日为2008年03月19日；
对比文件4：公开号为WO2005/055297A1，公开日为2005年06月16日。
其中，对比文件2为最接近的现有技术。
2-1、独立权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求1请求保护一种加载锁定腔室，对比文件2（参见说明书第2页第2、3段、第3页第15行到第8页第1行，图1-4B）公开了一种大面积基板处理系统的多室装载锁100（相当于加载锁定腔室）；其具有垂直堆栈的单个基板转移室220、222、224（相当于可抽真空腔室），每个基板转移室都具有基板支撑体244（相当于基板支撑件），用于支撑单个大面积矩形（具体参见说明书第2页第2段）基板110；每个基板转移室都具有形成四个角落的四个侧壁，具有在第四侧壁302中间的排气口306，和第三侧壁206中间的真空口304，其中第三侧壁206和与第四侧壁302隔着基板110相对设置；真空口306连接到真空泵308，因此该基板转移室是可抽真空腔室。
权利要求1与对比文件2相比，其区别技术特征是：四个泵端口，其中每一泵端口靠近所述四个角落中的相应角落，且其中所述四个泵端口中的两个泵端口位于所述矩形基板的平面的上方的第一侧壁上，并且所述四个泵端口中的另外两个泵端口位于所述矩形基板的平面的上方的与所述第一侧壁相对的第二侧壁上，使得颗粒移出所述腔室而不会通过所述矩形基板上方，并且不会被抽吸跨越所述矩形基板；和一个真空泵，与所有所述泵端口耦接。基于此，可以确定权利要求1实际解决的技术问题都是：设定泵端口的数量和位置，用以移出颗粒。
对于上述区别技术特征，对比文件4中（参见说明书第18-58段，附图1-8）公开了一种半导体处理单元，包括：可抽真空的腔室2，具有基座14（相当于基板支撑件）用以支撑一个基板W，腔室2的形状可为正四边形（具体参见说明书第35段），可知此时腔室2具有形成四个角落的四个侧壁，以及四个排气管17，其端口（相当于泵端口），其中每一个端口位于所述基板W的平面的上方的侧壁上；真空泵，与所有所述排气管17耦接。本领域技术人员为了增强对比文件2中基板转移室的抽真空能力，可以将对比文件4中的排列在腔室2四个角落的四个排气管17用于对比文件2的相对的第三侧壁206和与第四侧壁302上，即，使四个排气管17在高于基板110的位置上进行抽真空。本领域技术人员为了获得均衡的空气吸力，可以将四个排气管17对称地设置，因此基板110上的颗粒会沿着最近的道路（即不会通过基板上方）从相对应的四个排气管17的端口排出到基板转移室外，并使颗粒不会被抽吸跨越所述矩形基板。这种设置的方式属于本领域的公知常识。因此，在对比文件2的基础上结合对比文件4和本领域的公知常识以获得权利要求1所保护的技术方案，对于本领域技术人员而言是显而易见的，权利要求1不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-2、独立权利要求3不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求3请求保护一种设备，对比文件2（参见说明书第2页第2、3段、第3页第15行到第8页第1行，图1-4B）公开了一种大面积基板处理系统的多室装载锁100（相当于设备），包括N个（N是大于1的整数，附图中示例为三个）垂直堆栈的单个基板转移室220、222、224（加载锁定腔室），形成一个室体212（相当于主体），每个基板转移室都具有基板支撑体244（相当于基板支撑件），用于支撑单个大面积矩形（具体参见说明书第2页第2段）基板110；每个基板转移室都具有形成四个角落的四个侧壁，具有在第四侧壁302中间的排气口306，和第三侧壁206中间的真空口304，其中第三侧壁206和与第四侧壁302隔着基板110相对设置；真空口306连接到真空泵308，因此该基板转移室是可抽真空腔室；N-1个内壁214，用于将相邻的基板转移室分隔开且彼此隔离。
权利要求3与对比文件2相比，其区别技术特征是：形成四个角落的四个侧壁以及四个泵端口，其中各个泵端口靠近所述四个角落中的相应角落，且其中所述四个泵端口中的两个泵端口位于所述相应矩形基板的平面的上方的第一侧壁上，并且所述四个泵端口中的另外两个泵端口位于所述矩形基板的平面的上方的与所述第一侧壁相对的第二侧壁上，使得颗粒移出所述腔室而不会通过所述矩形基板上方，并且不会被抽吸跨越所述矩形基板；一个真空泵，耦接至所有所述泵端口。基于此，可以确定权利要求3实际解决的技术问题都是：设定泵端口的数量和位置，用以移出颗粒。
对于上述区别技术特征，对比文件4（参见说明书第18-58段，附图1-8）公开了一种半导体处理单元，包括：可抽真空的腔室2，具有基座14（相当于基板支撑件）用以支撑一个基板W，腔室2的形状可为正四边形（具体参见说明书第35段），可知此时腔室2具有形成四个角落的四个侧壁，以及四个排气管17，其端口（相当于泵端口），其中每一个端口位于所述基板W的平面的上方的侧壁上；真空泵，与所有所述排气管17耦接。本领域技术人员为了增强对比文件2中基板转移室的抽真空能力，可以将对比文件4中的排列在腔室2四个角落的四个排气管17用于对比文件2的相对的第三侧壁206和与第四侧壁302上，即，使四个排气管17在高于基板110的位置上进行抽真空。本领域技术人员为了获得均衡的空气吸力，可以将四个排气管17对称地设置，因此基板110上的颗粒会沿着最近的道路（即不会通过基板上方）从相对应的四个排气管17的端口排出到基板转移室外，并使颗粒不会被抽吸跨越所述矩形基板。这种设置的方式属于本领域的公知常识。
因此，在对比文件2的基础上结合对比文件4和本领域的公知常识以获得权利要求3所保护的技术方案，对于本领域技术人员而言是显而易见的，权利要求3不具有突出的实质性特点和显著的进步，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2-3、从属权利要求2、4的技术方案不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
对于权利要求2，对比文件4（具体参见说明书第35段）公开了具有四个排气管17。
对于权利要求4，对比文件2（具体参见说明书第4页第3段，附图2）中公开了N是3。
因此，当其所引用的权利要求不具有创造性时，权利要求2、4也不具有创造性。
3、对复审请求人相关意见的评述
针对复审请求人在复审无效宣告程序意见陈述书中所陈述的意见，合议组认为：（1）对比文件4中的腔室2是沉积室且不涉及颗粒的内容，只是与对比文件4的腔室2的用途有关，与四个排气管17及其位置关系之间并没有必然的关系，即上述排气管17并不是仅能用于其腔室2的抽真空；本领域技术人员为了提高对比文件2中基板转移室抽真空的能力，在对比文件4中所公开四个排气管17及其位置关系的技术启示下，将对比文件4的上述内容应用于对比文件2，即可提升对比文件2的抽真空能力。（2）根据对比文件4第29段以及附图4的记载，都可以看出，排气管17的内壁底部和晶片的上表面虽然基本相同的高度，但排气管17抽气的管口的位置都是高于基板W的，因此将对比文件4用于对比文件2进行抽真空时，颗粒也必然会先被提升然后顺着气流的方向用最短的路径进入相应的排气管17中，不跨越基板也只是此种情况下的一个必然结果。即便如复审请求人所提交的标注后的“对比文件4的图4”中所显示的，本申请中泵端口的位置高于对比文件4排气管17的位置，也只能说明两者高于基板W的程度不同，但对比文件4中排气管17也是高于基板W的。（3）本领域技术人员基于伯努利效应（当流体速度加快时，物体与流体接触的界面上的压力会减小），推知由于各区域都是与端口等距离对应的，不存在距离端口相同距离的区域空气流速不同的情况，因此其压力也都是相同，无法直接地毫无疑义地得出颗粒首先被提升的结论；并且上述内容也没有记载在本申请原始公开的内容中，因此复审请求人所认为的颗粒首先被提升的内容将不被认可。而且对比文件4中的排气管17也是高于晶片W的，其颗粒在排出排气管17的过程，也应当与本申请中的是一样的。综上所述，合议组对复审请求人所陈述的意见不予支持。
在上述程序的基础上，合议组依法作出如下审查决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2018年05月30日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定,复审请求人自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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