发明创造名称：显示基板及其制造方法
外观设计名称：
决定号：181088
决定日：2019-06-17
委内编号：1F261587
优先权日：
申请（专利）号：201611025463.9
申请日：2016-11-15
复审请求人：京东方科技集团股份有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：张礅
合议组组长：肖霞
参审员：杨蔚蔚
国际分类号：G02F1/1335，G02F1/13
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果权利要求的技术方案与最接近现有技术的部分区别技术特征没有被其它对比文件公开，其它对比文件也没有给出将该区别技术特征应用于该最接近现有技术的技术启示，也没有证据证明其为本领域的公知常识，且该部分区别技术特征为权利要求的技术方案带来了有益的技术效果，则认定该权利要求具备创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201611025463.9，名称为“显示基板及其制造方法”的发明专利申请（下称本申请）。申请人为京东方科技集团股份有限公司。本申请的申请日为2016年11月15日，公开日为2017年03月22日。
经实质审查，国家知识产权局专利实质审查部门于2018年06月14日以权利要求1-14不符合专利法第22条第3款有关创造性的规定为由驳回了本申请。驳回决定引用了如下对比文件：
对比文件1：CN105182595A，公开日为2015年12月23日；
对比文件2：CN106019444A，公开日为2016年10月12日。
驳回决定所依据的文本为：申请人于2018年04月02日提交的权利要求第1-14项；申请日2016年11月15日提交的说明书第1-24页、说明书附图第1-23页、说明书摘要及摘要附图。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种显示基板，包括：
衬底基板；和
形成在衬底基板上的光学膜层，
其中，该光学膜层被构造为滤除预先指定的波长范围的光，
所述预先指定的波长范围的中心波长为580nm和/或485nm，半高峰宽为25-55nm，
形成所述光学膜层的材料从包括氮化硅、氧化硅的组中选择，并且
所述光学膜层由多层薄膜构成，并且包括交替叠置的具有第一折射率的第一材料层和具有第二折射率的第二材料层；其中所述多层薄膜的层数在5至50层之间，并且各层的厚度在15至45nm的范围内。
2. 根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述显示基板为阵列基板。
3. 根据权利要求2所述的显示基板，其中，所述光学膜层还构成所述阵列基板的栅绝缘层和/或钝化层。
4. 根据权利要求2所述的显示基板，其中，所述阵列基板还包括：栅绝缘层和/或钝化层，所述光学膜层形成为与所述栅绝缘层和/或钝化层不同的层。
5. 根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述显示基板为彩膜基板，所述光学膜层仅形成在与预定基色亚像素对应的位置处。
6. 一种显示面板，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，其中，所述阵列基板为根据上述权利要求1-4中任一项所述的显示基板，和/或所述 彩膜基板是根据上述权利要求1和5中任一项所述的显示基板。
7. 根据权利要求6所述的显示面板，其中，所述阵列基板包括第一衬底基板和形成在该第一衬底基板上的第一光学膜层，和所述彩膜基板包括第二衬底基板和形成在该第二衬底基板上的第二光学膜层，并且其中，
所述第一光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为580nm、半高峰宽为25-55nm，并且所述第二光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为485nm、半高峰宽为25-55nm；或者，所述第一光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为485nm、半高峰宽为25-55nm，并且所述第二光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为580nm、半高峰宽为25-55nm。
8. 根据权利要求6所述的显示面板，其中，所述阵列基板包括第一衬底基板和形成在该第一衬底基板上的第一光学膜层和第二光学膜层，并且其中，
所述第一光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为580nm、半高峰宽为25-55nm，并且所述第二光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为485nm、半高峰宽为25-55nm。
9. 一种显示基板的制造方法，包括如下步骤：
提供衬底基板；和
在所述衬底基板上形成光学膜层，
其中，该光学膜层被构造为滤除预先指定的波长范围的光，
所述预先指定的波长范围的中心波长为580nm和/或485nm，半高峰宽为25-55nm，
形成所述光学膜层的材料从包括氮化硅、氧化硅的组中选择，并且
所述光学膜层由多层薄膜构成，并且包括交替叠置的具有第一折射率的第一材料层和具有第二折射率的第二材料层；其中所述多层薄膜的层数 在5至50层之间，并且各层的厚度在15至45nm的范围内。
10. 根据权利要求9所述的制造方法，其中，所述衬底基板为阵列基板的衬底基板。
11. 根据权利要求10所述的制造方法，其中，所述光学膜层还构成所述阵列基板的栅绝缘层和/或钝化层。
12. 根据权利要求10所述的制造方法，还包括如下步骤：
在所述阵列基板的衬底基板上形成栅绝缘层和/或钝化层。
13. 根据权利要求9-12中任一项所述的制造方法，其中，在所述衬底基板上形成光学膜层的步骤包括：通过沉积工艺，在所述衬底基板上形成光学膜层。
14. 根据权利要求9所述的制造方法，其中，所述衬底基板为彩膜基板的衬底基板，所述制造方法还包括如下步骤：在所述彩膜基板的衬底基板上形成多基色亚像素，
其中，在所述彩膜基板的衬底基板上形成光学膜层的步骤包括：使用掩膜版，以仅在与预定基色亚像素对应的位置处形成所述光学膜层；或者
在所述彩膜基板的衬底基板上形成光学膜层的步骤包括：在全部亚像素上均形成光学膜层，采用蚀刻工艺蚀刻掉与除预定基色亚像素之外的其它基色亚像素对应的位置处的光学膜层，以仅在与预定基色亚像素对应的位置处形成光学膜层。”
驳回决定具体指出：1、独立权利要求1与对比文件1的区别技术特征在于：（1）预先指定的波长范围的中心波长为580nm和/或485nm，半高峰宽为25-55nm；（2）形成所述光学膜层的材料从包括氮化硅、氧化硅的组中选择，并且所述光学膜层由多层薄膜构成，并且包括交替叠置的具有第一折射率的第一材料层和具有第二折射率的第二材料层；其中所述多层薄膜的层数在5至50层之间，并且各层的厚度在15至45nm的范围内。上述区别技术特征（1）是本领域技术人员在对比文件2给出的技术启示下，在对比文件1的基础上容易得到的，上述区别技术特征（2）部分被对比文件2公开且作用相同，其余部分是本领域的常用技术手段，因此，权利要求1相对于对比文件1、2和公知常识不具备专利法第22条第3款规定的创造性。2、从属权利要求2-5的附加技术特征被对比文件1公开，因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求2-5不具备专利法第22条第3款规定的创造性。3、独立权利要求6包括阵列基板为权利要求1-4任一项的显示基板，和/或彩膜基板是权利要求1和5中任一项的显示基板。对比文件1公开了一种显示面板，因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求6不具备专利法第22条第3款规定的创造性。4、从属权利要求7、8的附加技术特征是本领域技术人员在对比文件2给出的技术启示下，在对比文件1的基础上容易得到的，因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求7、8不具备专利法第22条第3款规定的创造性。5、独立权利要求9与对比文件1的区别技术特征在于：（1）预先指定的波长范围的中心波长为580nm和/或485nm，半高峰宽为25-55nm；（2）形成所述光学膜层的材料从包括氮化硅、氧化硅的组中选择，并且所述光学膜层由多层薄膜构成，并且包括交替叠置的具有第一折射率的第一材料层和具有第二折射率的第二材料层；其中所述多层薄膜的层数在5至50层之间，并且各层的厚度在15至45nm的范围内。基于与权利要求1类似的理由，权利要求9相对于对比文件1、2和公知常识不具备专利法第22条第3款规定的创造性。6、从属权利要求10-13的附加技术特征被对比文件1公开，从属权利要求14的附加技术特征部分被对比文件1公开，其余部分是本领域的常用技术手段，因此，当其引用的权利要求不具备创造性时，权利要求10-14不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人京东方科技集团股份有限公司（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年09月26日向国家知识产权局提出了复审请求，提交了意见陈述书，没有提交修改替换页。复审请求人认为：对比文件1包括用于减弱一部分由光源发射的蓝光的蓝光抑制剂，可以以简单且成本有效的方式解决显示装置中的蓝光伤害问题。本申请实际解决的技术问题是提高红光和绿光的色纯度，因此，需要滤除掉红绿的中间色黄色和/或滤除掉绿蓝的中间色青绿色。对比文件2要解决的技术问题和采用的技术方案均与本申请不同。对比文件2解决的技术问题是维持白平衡，在滤除蓝光的同时，滤除掉蓝光的互补色光黄光，在光吸收层的材料选取和折射率要求上也会有所不同。对比文件2的黄光吸收结构设置有防蓝光层和黄光吸收材料，能够吸收蓝光波段和部分黄光波段，通过防蓝光层吸收蓝光波段，通过黄光吸收材料吸收部分黄光波段。对比文件2的黄光吸收结构比本申请中的结构复杂得多，即使对比文件2中的防蓝光膜层可由多层不同折射率层构成且黄光吸收材料可选择氟化镁、氮化镓等材料，因此在对比文件1的教导下，即使结合对比文件2，没有动机去滤除中心波长580nm和/或485nm，半高峰宽为25-55nm的光，并且形成所述光学膜层的材料从包括氮化硅、氧化硅的组中选择，并且所述光学膜层由多层薄膜构成，并且包括交替叠置的具有第一折射率的第一材料层和具有第二折射率的第二材料层；其中所述多层薄膜的层数在5至50层之间，并且各层的厚度在15至45nm的范围内，从而提高显示基板的色域。因此，权利要求具备创造性。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年09月30日依法受理了该复审请求，并将其转送至原专利实质审查部门进行前置审查。
原专利实质审查部门在前置审查意见书中坚持原驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
复审请求人又于2019年05月20日提交了权利要求书的全文修改替换页，具体修改涉及：将权利要求1、9中的“所述预先指定的波长范围的中心波长为580nm和/或485nm”修改为“所述预先指定的波长范围的中心波长为580nm和485nm”
修改后的权利要求书如下：
“1. 一种显示基板，包括：
衬底基板；和
形成在衬底基板上的光学膜层，
其中，该光学膜层被构造为滤除预先指定的波长范围的光，
所述预先指定的波长范围的中心波长为580nm和485nm，半高峰宽为25-55nm，
形成所述光学膜层的材料从包括氮化硅、氧化硅的组中选择，并且
所述光学膜层由多层薄膜构成，并且包括交替叠置的具有第一折射率的第一材料层和具有第二折射率的第二材料层；其中所述多层薄膜的层数在5至50层之间，并且各层的厚度在15至45nm的范围内。
2. 根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述显示基板为阵列基板。
3. 根据权利要求2所述的显示基板，其中，所述光学膜层还构成所述阵列基板的栅绝缘层和/或钝化层。
4. 根据权利要求2所述的显示基板，其中，所述阵列基板还包括：栅绝缘层和/或钝化层，所述光学膜层形成为与所述栅绝缘层和/或钝化层不同的层。
5. 根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述显示基板为彩膜基板，所述光学膜层仅形成在与预定基色亚像素对应的位置处。
6. 一种显示面板，包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，其中，所述阵列基板为根据上述权利要求1-4中任一项所述的显示基板，和/或所述彩膜基板是根据上述权利要求1和5中任一项所述的显示基板。
7. 根据权利要求6所述的显示面板，其中，所述阵列基板包括第一衬底基板和形成在该第一衬底基板上的第一光学膜层，和所述彩膜基板包括第二衬底基板和形成在该第二衬底基板上的第二光学膜层，并且其中，
所述第一光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为580nm、半高峰宽为25-55nm，并且所述第二光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为485nm、半高峰宽为25-55nm；或者，所述第一光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为485nm、半高峰宽为25-55nm，并且所述第二光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为580nm、半高峰宽为25-55nm。
8. 根据权利要求6所述的显示面板，其中，所述阵列基板包括第一衬底基板和形成在该第一衬底基板上的第一光学膜层和第二光学膜层，并且其中，
所述第一光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为580nm、半高峰宽为25-55nm，并且所述第二光学膜层滤除的预先指定的波长范围的中心波长为485nm、半高峰宽为25-55nm。
9. 一种显示基板的制造方法，包括如下步骤：
提供衬底基板；和
在所述衬底基板上形成光学膜层，
其中，该光学膜层被构造为滤除预先指定的波长范围的光，
所述预先指定的波长范围的中心波长为580nm和485nm，半高峰宽为25-55nm，
形成所述光学膜层的材料从包括氮化硅、氧化硅的组中选择，并且
所述光学膜层由多层薄膜构成，并且包括交替叠置的具有第一折射率的第一材料层和具有第二折射率的第二材料层；其中所述多层薄膜的层数 在5至50层之间，并且各层的厚度在15至45nm的范围内。
10. 根据权利要求9所述的制造方法，其中，所述衬底基板为阵列基板的衬底基板。
11. 根据权利要求10所述的制造方法，其中，所述光学膜层还构成所述阵列基板的栅绝缘层和/或钝化层。
12. 根据权利要求10所述的制造方法，还包括如下步骤：
在所述阵列基板的衬底基板上形成栅绝缘层和/或钝化层。
13. 根据权利要求9-12中任一项所述的制造方法，其中，在所述衬底基板上形成光学膜层的步骤包括：通过沉积工艺，在所述衬底基板上形成光学膜层。
14. 根据权利要求9所述的制造方法，其中，所述衬底基板为彩膜基板的衬底基板，所述制造方法还包括如下步骤：在所述彩膜基板的衬底基板上形成多基色亚像素，
其中，在所述彩膜基板的衬底基板上形成光学膜层的步骤包括：使用掩膜版，以仅在与预定基色亚像素对应的位置处形成所述光学膜层；或者
在所述彩膜基板的衬底基板上形成光学膜层的步骤包括：在全部亚像素上均形成光学膜层，采用蚀刻工艺蚀刻掉与除预定基色亚像素之外的其它基色亚像素对应的位置处的光学膜层，以仅在与预定基色亚像素对应的位置处形成光学膜层。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
（一）审查文本的认定
复审请求人在2019年05月20日提交了权利要求书的全文修改替换页，经核实，修改符合专利法第33条的规定。本复审请求审查决定依据的文本为：复审请求人于2019年05月20日提交的权利要求第1-14项；申请日2016年11月15日提交的说明书第1-24页、说明书附图第1-23页、说明书摘要及摘要附图。
（二）关于创造性
专利法第22条第3款的规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果权利要求的技术方案与最接近现有技术的部分区别技术特征没有被其它对比文件公开，其它对比文件也没有给出将该区别技术特征应用于该最接近现有技术的技术启示，也没有证据证明其为本领域的公知常识，且该部分区别技术特征为权利要求的技术方案带来了有益的技术效果，则认定该权利要求具备创造性。
具体到本案：
1、权利要求1请求保护一种显示基板，对比文件1公开了一种显示基板，并具体公开了（参见说明书第[0046]-[0064]段、附图1-3）：显示基板包括：衬底100；和形成在衬底100上的蓝光抑制层104，蓝光抑制层104减弱一部分由背光模块10发射的蓝光（相当于光学膜层被构造为滤除预先指定的波长范围的光），蓝光抑制层104包括在透明介质底层上的第一透明介质层和第二透明介质层。第一透明介质层的折射率n1大于透明介质层的折射率n0，并且第一透明介质层的折射率n1大于第二透明介质层的折射率n2（参见说明书第[0049]段）。透明介质底层可以是SiO2，第一透明介质层可以为SiNx，第二透明介质层可以是SiO2（参见说明书第[0053]段）（相当于形成所述光学膜层的材料从包括氮化硅、氧化硅的组中选择）。蓝光抑制层104中第一和第二透明介质层的层数越多（相当于光学膜层由多层薄膜构成，包括交替叠置具有第一折射率的第一材料层和具有第二折射率的第二材料层），可以反射更多的蓝光，可以更好地防止蓝光伤害（参见说明书第[0064]段）。
权利要求1与对比文件1的区别技术特征在于：（1）多层薄膜的层数在5至50层之间，并且各层的厚度在15至45nm的范围内；（2）预先指定的波长范围的中心波长为580nm和485nm，半高峰宽为25-55nm。权利要求1实际解决的技术问题是：（1）如何合理设置薄膜结构；（2）如何提高红光和绿光的色纯度，从而提高显示基板的色域。
对于区别技术特征（1），根据滤除波长的需要，将各层薄膜的厚度选择在15-45nm是本领域的常规选择，在对比文件1公开了蓝光抑制层104中第一和第二透明介质层的层数越多，可以反射更多的蓝光，可以更好地防止蓝光伤害的基础上，本领域技术人员容易将多层薄膜的层数选择为5-50层之间。
对于区别技术特征（2），驳回决定和前置意见中认为：对比文件2公开了将对两种波长的光过滤或吸收的元件结合在一起，从而能够同时对两种波长的光滤除，并且减少了显示面板中的结构，这种结构的选择和使用对色域带来的影响或有益效果是可以预见的，其必然能够改善色域，与本申请的技术效果相同。在对比文件2给出的技术启示下，本领域技术人员在对比文件1的基础上可以根据具体的需求，针对所需要滤除的具体波长以及带宽的光来进一步选择相应折射率的材料来制成光学膜片，以便同时将不同波长及带宽的光滤除。
对此，合议组认为：对于采用RGB三原色的显示基板而言，三种原色越纯，半高峰宽越窄，可以表现的色域越广。通过滤除蓝绿色光、黄色光和橙色光来提高红光和绿光的颜色纯度，从而能够提高显示基板的色域。即区别技术特征（2）是滤除蓝光与绿光之间的蓝绿色光，即中心波长为485nm，半高峰宽为25-55nm，以及绿光与红光之间的黄色光和橙色光，即中心波长为580nm，半高峰宽为25-55nm，基于此，权利要求1实际解决的技术问题是：如何提高红光和绿光的色纯度，从而提高显示基板的色域。
对比文件1说明书第[0054]段记载了抑制440-470nm波段的蓝光，其波段与区别技术特征（2）限定的中心波长为580nm和485nm，半高峰宽为25-55nm不同，并且由于对比文件1要解决的技术问题是防蓝光伤害，580nm和485nm不在有害的蓝光的波段范围内，本领域技术人员在对比文件1的基础上，没有动机将滤除的波长范围变为区别技术特征（2）限定的中心波长为580nm和485nm，半高峰宽为25-55nm。
对比文件2公开了一种黄光吸收结构，包括黄光吸收材料110、防蓝光膜层120和基体130，黄光吸收材料110可以设置于基体130中，不仅能够吸收蓝光波段，同时还能吸收部分黄光波段，以减少显示屏幕的色偏移，维持了显示屏幕的色彩白平衡。 对比文件2要解决的技术问题是在吸收有害的蓝光的同时减少显示屏幕的色偏移，维持显示屏幕的色彩白平衡，其采用的技术手段是使黄光吸收结构同时包括黄光吸收材料和防蓝光膜层，在过滤对人眼造成危害的蓝光波段的同时还能够吸收部分黄色波段。首先，对比文件2没有限定黄光吸收材料和防蓝光膜层吸收的具体中心波长和半高峰，即对比文件2没有公开区别技术特征（2）。并且，使黄光吸收结构同时包括黄光吸收材料和防蓝光膜层所起的作用为在吸收有害的蓝光的同时减少显示屏幕的色偏移，而区别技术特征（2）在权利要求1中为解决其技术问题所起的作用为：提高红光和绿光的色纯度，从而提高显示基板的色域。两者并不相同。再者，由于对比文件2中吸收蓝光是为了防止蓝光伤害，而中心波长为485nm，半高峰宽为25-55nm对应的颜色为蓝绿光，并不在有害的蓝光的波段范围内，本领域技术人员在对比文件2公开的吸收蓝光防止蓝光伤害的基础上，没有动机将吸收波段设置为中心波长为485nm，半高峰宽为25-55nm。因此，对比文件2没有给出将上述区别技术特征（2）应用到对比文件1的启示。
综上所述，对比文件1、2均不能给出采用上述区别技术特征（2）的启示，目前也没有证据表明上述区别技术特征（2）是本领域的公知常识，并且基于上述区别技术特征（2），权利要求1的技术方案实现了提高红光和绿光的色纯度，从而提高显示基板色域的有益的技术效果。
因此，权利要求1具有突出的实质性特定和显著的进步，符合专利法第22条第3款的规定。
2、权利要求9请求保护一种显示基板的制造方法，对比文件1公开了一种显示基板的制造方法，并具体公开了（参见说明书第[0046]-[0064]段、附图1-3）：提供衬底100；在衬底100上形成蓝光抑制层104，蓝光抑制层104减弱一部分由背光模块10发射的蓝光（相当于光学膜层被构造为滤除预先指定的波长范围的光），蓝光抑制层104包括在透明介质底层上的第一透明介质层和第二透明介质层。第一透明介质层的折射率n1大于透明介质层的折射率n0，并且第一透明介质层的折射率n1大于第二透明介质层的折射率n2（参见说明书第[0049]段）。透明介质底层可以是SiO2，第一透明介质层可以为SiNx，第二透明介质层可以是SiO2（参见说明书第[0053]段）（相当于形成所述光学膜层的材料从包括氮化硅、氧化硅的组中选择）。蓝光抑制层104中第一和第二透明介质层的层数越多（相当于光学膜层由多层薄膜构成，包括交替叠置具有第一折射率的第一材料层和具有第二折射率的第二材料层），可以反射更多的蓝光，可以更好地防止蓝光伤害（参见说明书第[0064]段）。
权利要求9与对比文件1的区别技术特征在于：（1）多层薄膜的层数在5至50层之间，并且各层的厚度在15至45nm的范围内；（2）预先指定的波长范围的中心波长为580nm和485nm，半高峰宽为25-55nm。权利要求9实际解决的技术问题是：（1）如何合理设置薄膜结构；（2）如何提高红光和绿光的色纯度，从而提高显示基板的色域。
对于区别技术特征（1），根据滤除波长的需要，将各层薄膜的厚度选择在15-45nm是本领域的常规选择，在对比文件1公开了蓝光抑制层104中第一和第二透明介质层的层数越多，可以反射更多的蓝光，可以更好地防止蓝光伤害的基础上，本领域技术人员容易将多层薄膜的层数选择为5-50层之间。
对于区别技术特征（2），驳回决定和前置意见中认为：对比文件2公开了将对两种波长的光过滤或吸收的元件结合在一起，从而能够同时对两种波长的光滤除，并且减少了显示面板中的结构，这种结构的选择和使用对色域带来的影响或有益效果是可以预见的，其必然能够改善色域，与本申请的技术效果相同。在对比文件2给出的技术启示下，本领域技术人员在对比文件1的基础上可以根据具体的需求，针对所需要滤除的具体波长以及带宽的光来进一步选择相应折射率的材料来制成光学膜片，以便同时将不同波长及带宽的光滤除。
对此，合议组认为：对于采用RGB三原色的显示基板而言，三种原色越纯，半高峰宽越窄，可以表现的色域越广。通过滤除蓝绿色光、黄色光和橙色光来提高红光和绿光的颜色纯度，从而能够提高显示基板的色域。即区别技术特征（2）是滤除蓝光与绿光之间的蓝绿色光，即中心波长为485nm，半高峰宽为25-55nm，以及绿光与红光之间的黄色光和橙色光，即中心波长为580nm，半高峰宽为25-55nm，基于此，权利要求9实际解决的技术问题是：如何提高红光和绿光的色纯度，从而提高显示基板的色域。
对比文件1说明书第[0054]段记载了抑制440-470nm波段的蓝光，其波段与区别技术特征（2）限定的中心波长为580nm和485nm，半高峰宽为25-55nm不同，并且由于对比文件1要解决的技术问题是防蓝光伤害，580nm和485nm不在有害的蓝光的波段范围内，本领域技术人员在对比文件1的基础上，没有动机将滤除的波长范围变为区别技术特征（2）限定的中心波长为580nm和485nm，半高峰宽为25-55nm。
对比文件2公开了一种黄光吸收结构，包括黄光吸收材料110、防蓝光膜层120和基体130，黄光吸收材料110可以设置于基体130中，不仅能够吸收蓝光波段，同时还能吸收部分黄光波段，以减少显示屏幕的色偏移，维持了显示屏幕的色彩白平衡。 对比文件2要解决的技术问题是在吸收有害的蓝光的同时减少显示屏幕的色偏移，维持显示屏幕的色彩白平衡，其采用的技术手段是使黄光吸收结构同时包括黄光吸收材料和防蓝光膜层，在过滤对人眼造成危害的蓝光波段的同时还能够吸收部分黄色波段。首先，对比文件2没有限定黄光吸收材料和防蓝光膜层吸收的具体中心波长和半高峰，即对比文件2没有公开区别技术特征（2）。并且，使黄光吸收结构同时包括黄光吸收材料和防蓝光膜层所起的作用为在吸收有害的蓝光的同时减少显示屏幕的色偏移，而区别技术特征（2）在权利要求9中为解决其技术问题所起的作用为：提高红光和绿光的色纯度，从而提高显示基板的色域。两者并不相同。再者，由于对比文件2中吸收蓝光是为了防止蓝光伤害，而中心波长为485nm，半高峰宽为25-55nm对应的颜色为蓝绿光，并不在有害的蓝光的波段范围内，本领域技术人员在对比文件2公开的吸收蓝光防止蓝光伤害的基础上，没有动机将吸收波段设置为中心波长为485nm，半高峰宽为25-55nm。因此，对比文件2没有给出将上述区别技术特征（2）应用到对比文件1的启示。
综上所述，对比文件1、2均不能给出采用上述区别技术特征（2）的启示，目前也没有证据表明上述区别技术特征（2）是本领域的公知常识，并且基于上述区别技术特征（2），权利要求9的技术方案实现了提高红光和绿光的色纯度，从而提高显示基板色域的有益的技术效果。
因此，权利要求9具有突出的实质性特定和显著的进步，符合专利法第22条第3款的规定。
3、在权利要求1、9具备创造性的情况下，直接或间接引用权利要求1、9的权利要求2-8、10-14也相应的符合专利法第22条第3款有关创造性的规定。
根据以上事实和理由，本案合议组作出如下审查决定。
三、决定
撤销国家知识产权局于2018年06月14日对本申请作出的驳回决定。由国家知识产权局原专利实质审查部门在本复审请求审查决定所针对的文本的基础上对本申请继续进行审查。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
郑重声明：本文版权归原作者所有，转载文章仅为传播更多信息之目的，如作者信息标记有误，请第一时间联系我们修改或删除，多谢。
