
发明创造名称:嵌段聚酰亚胺和嵌段聚酰胺酸酰亚胺、以及其用途
外观设计名称:
决定号:186892
决定日:2019-08-15
委内编号:1F250219
优先权日:2013-04-25
申请(专利)号:201480022641.5
申请日:2014-04-23
复审请求人:三井化学株式会社
无效请求人:
授权公告日:
审定公告日:
专利权人:
主审员:孙捷
合议组组长:封志强
参审员:范燕迪
国际分类号:C08G73/10,B32B15/088,C08J5/18,C09D179/08,G02B1/04,G03F7/037,H01B3/30,H05K1/03
外观设计分类号:
法律依据:专利法第22条第2款和第3款
决定要点:如果一份对比文件没有公开一项权利要求的全部技术特征,即该项权利要求的技术方案与对比文件的技术方案实质上不同,则该项权利要求相对于该对比文件具备新颖性。
全文:
本复审请求案涉及申请号为201480022641.5,名称为“嵌段聚酰亚胺和嵌段聚酰胺酸酰亚胺、以及其用途”的PCT发明专利申请(下称本申请),本申请的申请人为三井化学株式会社,申请日为2014年04月23日,优先权日为2013年04月25日,PCT进入中国国家阶段日为2015年10月21日,公开日为2015年12月09日。
经实质审查,国家知识产权局原审查部门于2018年01月10日发出驳回决定,以权利要求1-15、17、19、21、27和28不具备专利法第22条第2款规定的新颖性,权利要求16、18、20、22-26不具备专利法第22条第3款规定的创造性为由驳回了本申请。驳回决定所依据的文本为:申请人于2017年01月19日提交的权利要求第1-28项,按照PCT条约第28或41条修改的说明书第1-34页,2015年10月21日提交的说明书摘要(下称驳回文本)。
驳回文本的权利要求书如下:
“1. 一种嵌段聚酰亚胺,包括:由下述式(1A)所表示的重复结构单元构成的嵌段和由下述式(1B)所表示的重复结构单元构成的嵌段,
[化1]
式(1A)或式(1B)中,
m表示式(1A)所表示的重复结构单元的重复数,n表示式(1B)所表示的重复结构单元的重复数,且
当将嵌段聚酰亚胺中含有的式(1A)所表示的重复结构单元的总数除以由式(1A)所表示的重复结构单元构成的嵌段的数量所得的值设为m的平均值,将嵌段聚酰亚胺中含有的式(1B)所表示的重复结构单元的总数除以由式(1B)所表示的重复结构单元构成的嵌段的数量所得的值设为n的平均值时,m的平均值:n的平均值=大于9.5:小于0.5~小于10:大于0,
R和R”分别独立地为碳原子数4~27的四价基团,且为单环式脂肪族基、稠合多环式脂肪族基、单环式芳香族基或稠合多环式芳香族基、或者为环式脂肪族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式脂肪族基、或者为芳香族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式芳香族基,
R’为碳原子数4~51的二价基团,且为单环式脂肪族基、稠合多环式脂肪族基、或者环式脂肪族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式脂肪族基,但是单环式脂肪族基不包括1,4-亚环己基。
2. 如权利要求1所述的嵌段聚酰亚胺,所述m的平均值与n的平均值分别独立地为2~1000。
3. 如权利要求1所述的嵌段聚酰亚胺,所述式(1A)所表示的重复结构单元中的环己烷骨架包含下述式(1A-1)所表示的反式体和下述式(1A-2)所表示的顺式体,
所述反式体与所述顺式体的摩尔比或质量比为反式体:顺式体=10:0~5:5,
[化2]
4. 如权利要求1所述的嵌段聚酰亚胺,m的平均值:n的平均值=大于9.5:小于0.5~小于9.9:大于0.1。
5. 如权利要求1所述的嵌段聚酰亚胺,在对氯酚/苯酚=9/1(重量)的混合溶剂中,以浓度0.5g/dl、35℃所测定的对数粘度的值为0.1dl/g~3.0dl/g。
6. 如权利要求1所述的嵌段聚酰亚胺,在25℃~350℃的温度范围内,以升温速度为5℃/分钟、负荷为14g/mm2、拉伸模式的条件对包含所述嵌段聚酰亚胺的膜进行TMA测定,所得的玻璃化温度(Tg)为260℃以上。
7. 如权利要求1所述的嵌段聚酰亚胺,在25℃~350℃的温度范围内,以升温速度为5℃/分钟、负荷为14g/mm2、拉伸模式的条件对包含所述嵌段聚酰亚胺的膜进行TMA测定,所得的热膨胀系数为30ppm/K以下。
8. 如权利要求1所述的嵌段聚酰亚胺,包含所述嵌段聚酰亚胺的膜的、依据JIS K 7105所测定的全光线透过率为80%以上。
9. 一种嵌段聚酰胺酸酰亚胺,包括:由下述式(2A)所表示的重复结构单元构成的嵌段和由下述式(2B)所表示的重复结构单元构成的嵌段,
[化3]
式(2A)或式(2B)中,
m表示式(2A)所表示的重复结构单元的重复数,n表示式(2B)所表示的重复结构单元的重复数,且
当将嵌段聚酰胺酸酰亚胺中含有的式(2A)所表示的重复结构单元的总数除以由式(2A)所表示的重复结构单元构成的嵌段的数量所得的值设为m的平均值,将嵌段聚酰胺酸酰亚胺中含有的式(2B)所表示的重复结构单元的总数除以由式(2B)所表示的重复结构单元构成的嵌段的数量所得的值设为n的平均值时,m的平均值:n的平均值=大于9.5:小于0.5~小于10:大于0,
R和R”分别独立地为碳原子数4~27的四价基团,且为单环式脂肪族基、稠合多环式脂肪族基、单环式芳香族基或稠合多环式芳香族基、或者为环式脂肪族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式脂肪族基、或者为芳香族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式芳香族基,
R’为碳原子数4~51的二价基团,且为单环式脂肪族基、稠合多环式脂肪族基、或者环式脂肪族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式脂肪族基,但是单环式脂肪族基不包括1,4-亚环己基。
10. 如权利要求9所述的嵌段聚酰胺酸酰亚胺,所述m的平均值与n的平均值分别独立地为2~1000。
11. 如权利要求9所述的嵌段聚酰胺酸酰亚胺,包含所述式(2B)所表示的重复结构单元的聚酰亚胺能溶解在非质子性极性溶剂中。
12. 如权利要求9所述的嵌段聚酰胺酸酰亚胺,m的平均值:n的平均值=大于9.5:小于0.5~小于9.9:大于0.1。
13. 如权利要求9所述的嵌段聚酰胺酸酰亚胺,在N-甲基-2-吡咯烷酮溶剂中或在N,N-二甲基乙酰胺溶剂中,以浓度0.5g/dl、35℃所测定的对数粘度的值为0.1dl/g~3.0dl/g。
14. 如权利要求9所述的嵌段聚酰胺酸酰亚胺,使包含所述嵌段聚酰胺酸酰亚胺的、残存溶剂量为10质量%且厚度为15μm的干膜浸渍于2.38质量%的氢氧化四甲基铵水溶液中后测定的20℃的溶解速度为5μm/分钟~60μm/分钟的范围。
15. 一种嵌段聚酰胺酸酰亚胺的制造方法,是如权利要求9所述的嵌段聚酰胺酸酰亚胺的制造方法,包括使聚酰胺酸与聚酰亚胺在非质子性极性溶剂中进行反应的步骤,所述聚酰胺酸由所述式(2A)所表示的重复结构单元构成,所述聚酰亚胺由所述式(2B)所表示的重复结构单元构成且能溶解在非质子性极性溶剂中,
所述式(2A)所表示的重复结构单元中的环己烷骨架包含下述式(2A-1)所表示的反式体和下述式(2A-2)所表示的顺式体,
反式体与顺式体的摩尔比或质量比为反式体:顺式体=10:0~5:5,
[化4]
16. 一种嵌段聚酰胺酸酰亚胺的制造方法,是如权利要求9所述的嵌段聚酰胺酸酰亚胺的制造方法,包括使下述式(2A’)所表示的胺末端聚酰胺酸与下述式(2B’)所表示的酸酐末端聚酰亚胺在非质子性极性溶剂中进行反应的步骤,
式(2A’)所表示的胺末端聚酰胺酸由式(3)所表示的1,4-环己烷二胺与式(4)所表示的四羧酸二酐而获得,式(3)所表示的二胺/式(4)所表示的四羧酸二酐的摩尔比大于1且为2以下,
式(2B’)所表示的酸酐末端聚酰亚胺由式(5)所表示的二胺与式(6)所表示的四羧酸二酐而获得,式(5)所表示的二胺/式(6)所表示的四羧酸二酐的摩尔比为0.5以上且小于1,
[化5]
式(2A’)或式(4)中,
R为碳原子数4~27的四价基团,且为单环式脂肪族基、稠合多环式脂肪族基、单环式芳香族基或稠合多环式芳香族基、或者环式脂肪族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式脂肪族基、或者芳香族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式芳香族基,
式(3)所表示的1,4-环己烷二胺包含下述式(3-1)所表示的反式体和下述式(3-2)所表示的顺式体,反式体与顺式体的摩尔比或质量比为反式体:顺式体=10:0~5:5,
[化6]
[化7]
式(2B’)或式(5)中,R’为碳原子数4~51的二价基团,且为单环式脂肪族基、稠合多环式脂肪族基、环式脂肪族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式脂肪族基,但是单环式脂肪族基不包括1,4-亚环己基,
式(2B’)或式(6)中,R”为碳原子数4~27的四价基团,且为单环式脂肪族基、稠合多环式脂肪族基、单环式芳香族基或稠合多环式芳香族基、或者为环式脂肪族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式脂肪族基、或者为芳香族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式芳香族基。
17. 一种嵌段聚酰亚胺的制造方法,是权利要求1所述的嵌段聚酰亚胺的制造方法,包括对通过权利要求15所获得的嵌段聚酰胺酸酰亚胺进行热酰亚胺化或化学酰亚胺化的步骤。
18. 一种嵌段聚酰亚胺的制造方法,是权利要求1所述的嵌段聚酰亚胺的制造方法,包括对通过权利要求16所获得的嵌段聚酰胺酸酰亚胺进行热酰亚胺化或化学酰亚胺化的步骤。
19. 一种干膜,包括权利要求9所述的嵌段聚酰胺酸酰亚胺。
20. 一种层间绝缘膜用材料,包括权利要求9所述的嵌段聚酰胺酸酰亚胺。
21. 一种嵌段聚酰胺酸酰亚胺清漆,包括权利要求9所述的嵌段聚酰胺酸酰亚胺和溶剂。
22. 一种感光性树脂组合物,包括权利要求9所述的嵌段聚酰胺酸酰亚胺、光聚合性化合物和光聚合引发剂。
23. 一种叠层体,包括金属基板和权利要求19所述的干膜。
24. 一种电路基板,包括基板、经图案化的包含权利要求1所述的嵌段聚酰亚胺的层和经图案化的导体层。
25. 如权利要求24所述的电路基板,所述电路基板为悬挂基板或半导体封装基板。
26. 一种电路基板的制造方法,包括:
获得包含基板和含有权利要求22所述的感光性树脂组合物的层的叠层体的工序;
在所述叠层体的含有感光性树脂组合物的层上配置经图案化的光掩模的工序;
在隔着所述光掩模对所述含有感光性树脂组合物的层进行曝光后,利用碱性水溶液进行显影处理,对所述含有感光性树脂组合物的层进行图案化的工序;以及
对经图案化的所述含有感光性树脂组合物的层进行加热,对所述感光性树脂组合物中含有的嵌段聚酰胺酸酰亚胺进行酰亚胺化的工序。
27. 一种聚酰亚胺膜,包括权利要求1所述的嵌段聚酰亚胺。
28. 一种光学膜,包括权利要求27所述的聚酰亚胺膜。”
驳回决定认为:(一)关于新颖性:(1)对比文件1(JP特开2012-255985A,公开日为2012年12月27日)公开了权利要求1-5、9-13、15、17、19、21、27和28的全部技术特征,且对比文件1所公开的技术方案与上述权利要求所要求保护的技术方案属于相同技术领域,并能产生相同的技术效果,因此这些权利要求不具备新颖性。(2)对于权利要求6-8和14,对比文件1虽然未公开这些权利要求的附加技术特征,但由于所属领域的技术人员无法通过权利要求6-8和14所记载的性能参数特征,对由该参数表征的产品与对比文件公开的产品进行比较,从而不能确定它们之间的区别,则推定二者是相同的。因此当其引用的在前权利要求不具备新颖性时,权利要求6-8和14也不具备新颖性。(二)关于创造性:(1)对于权利要求16和18,其与对比文件1的区别在于:式(3)表示的二胺/式(4)表示的四羧酸二酐的摩尔比不同。但是本领域技术人员可以通过惯用技术手段来调节原料含量,且未产生任何预料不到的技术效果。因此权利要求16和18不具备创造性。(2)对于权利要求20和23-25,对比文件1公开的产品为嵌段聚酰亚胺、嵌段聚酰胺酸聚酰亚胺及其干膜,未公开用其制备的层间绝缘膜、叠层体、电路基板。对此,对比文件2(CN102369233A,公开日为2012年03月07日)给出了将嵌段聚酰胺酸聚酰亚胺用于制备层间绝缘膜、叠层体、电路基板的技术启示。因此权利要求20、23和24相对于对比文件1和2的结合不具备创造性,权利要求25的附加技术特征已经被对比文件2公开,因此也不具备创造性。(3)对于权利要求22和26,由于聚酰胺酸聚酰亚胺与光聚合性化合物和光引发剂一起制备感光性树脂组合物是本领域的惯用技术手段,且未产生任何预料不到的技术效果。同时对比文件2给出了使用聚酰胺酸酰亚胺制备电路基板的技术启示。因此权利要求22和26也不具备创造性。(三)针对申请人的如下意见陈述:对比文件1没有公开m和n的比例关系。此外,本申请和对比文件1得到的嵌段聚酰亚胺膜的用途不同,用途的差异导致二者产品所解决的技术问题和技术效果均不相同。层间绝缘膜需要用碱性水溶液进行显影处理,因而要求对碱性水溶液的高溶解性,并且要求膜具有高耐热性、高透明性和低CTE。驳回决定认为:申请人所陈述的数值范围的含义不能从本申请的申请文件中得出,且不符合本领域技术人员的常规理解,因此不具有说服力。而对比文件1公开的范围与权利要求1限定的数值范围存在交叉,因此权利要求1不具备新颖性。
申请人三井化学株式会社(下称复审请求人)对上述驳回决定不服,于2018年04月24日向国家知识产权局提出了复审请求,同时提交了权利要求书的修改替换页(共4页,16项)。相对于驳回文本的权利要求书,修改体现在:在原权利要求1-8和25中加入原权利要求24的内容,在原权利要求9-14中加入了原权利要求20的内容,修改了上述权利要求的主题;删除了权利要求15-24和27-28,并且根据说明书第23页第13-19行的记载,修改了原权利要求26,并适应性修改了权利要求的编号及引用关系。
复审请求人认为:(1)本申请和对比文件1技术领域不同,得到的嵌段聚酰亚胺膜的用途不同,由于用途的差异导致二者产品所解决的技术问题和技术效果均不相同,例如在CTE的控制方面。(2)对比文件2既没有公开本申请所述的m与n的比例,也没有公开将其膜用于层间绝缘膜。本申请的层间绝缘膜对碱性水溶液具有高溶解性,并且具有高耐热性、高透明性和低CTE。本领域技术人员没有动机将对比文件1或2的嵌段聚酰亚胺膜转化为本申请的层间绝缘膜。(3)“m的平均值:n的平均值=大于9.5:小于0.5~小于10:大于0”意味着m的平均值和n的平均值的合计为10时的m的平均值和n的平均值的比例范围是“m的平均值为大于9.5~小于10且n的平均值为小于0.5~大于0”,在此数值范围内制备的膜具备更优异的溶解性能、更高的玻璃化转变温度和更低的CTE。
经形式审查合格,国家知识产权局于2018年05月03日依法受理了该复审请求,并将其转送至国家知识产权局原审查部门进行前置审查。
国家知识产权局原审查部门在前置审查意见书中认为:(1)对比文件2给出了将嵌段聚酰胺酸聚酰亚胺用于制备层间绝缘膜、叠层体、电路基板的技术启示。(2)复审请求人所陈述的数值范围的含义没有依据,不具有说服力。因此,对比文件1公开的范围与权利要求1保护的数值范围仍然存在交叉。
随后,国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
复审请求人于2019年04月04日提交了修改后的权利要求书(共4页,16项),进一步修改了m和n平均值数值关系的书写表达方式,修改后的权利要求书如下:
“1. 一种电路基板,包括基板、经图案化的包含嵌段聚酰亚胺的层和经图案化的导体层,所述嵌段聚酰亚胺包括:由下述式(1A)所表示的重复结构单元构成的嵌段和由下述式(1B)所表示的重复结构单元构成的嵌段,
[化1]
式(1A)或式(1B)中,
m表示式(1A)所表示的重复结构单元的重复数,n表示式(1B)所表示的重复结构单元的重复数,且
当将嵌段聚酰亚胺中含有的式(1A)所表示的重复结构单元的总数除以由式(1A)所表示的重复结构单元构成的嵌段的数量所得的值设为m的平均值,将嵌段聚酰亚胺中含有的式(1B)所表示的重复结构单元的总数除以由式(1B)所表示的重复结构单元构成的嵌段的数量所得的值设为n的平均值时,1>m的平均值/(m的平均值 n的平均值)>0.95,且0.05>n的平均值/(m的平均值 n的平均值)>0,
R和R”分别独立地为碳原子数4~27的四价基团,且为单环式脂肪族基、稠合多环式脂肪族基、单环式芳香族基或稠合多环式芳香族基、或者为环式脂肪族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式脂肪族基、或者为芳香族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式芳香族基,
R’为碳原子数4~51的二价基团,且为单环式脂肪族基、稠合多环式脂肪族基、或者环式脂肪族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式脂肪族基,但是单环式脂肪族基不包括1,4-亚环己基。
2. 如权利要求1所述的电路基板,所述m的平均值与n的平均值分别独立地为2~1000。
3. 如权利要求1所述的电路基板,所述式(1A)所表示的重复结构单元中的环己烷骨架包含下述式(1A-1)所表示的反式体和下述式(1A-2)所表示的顺式体,
所述反式体与所述顺式体的摩尔比或质量比为反式体:顺式体=10:0~5:5,
[化2]
4. 如权利要求1所述的电路基板,0.99>m的平均值/(m的平均值 n的平均值)>0.95,且0.05>n的平均值/(m的平均值 n的平均值)>0.01。
5. 如权利要求1所述的电路基板,在对氯酚/苯酚=9/1(重量)的混合溶剂中,以浓度0.5g/dl、35℃所测定的所述嵌段聚酰亚胺的对数粘度的值为0.1dl/g~3.0dl/g。
6. 如权利要求1所述的电路基板,在25℃~350℃的温度范围内,以升温速度为5℃/分钟、负荷为14g/mm2、拉伸模式的条件对包含所述嵌段聚酰亚胺的膜进行TMA测定,所得的玻璃化温度(Tg)为260℃以上。
7. 如权利要求1所述的电路基板,在25℃~350℃的温度范围内,以升温速度为5℃/分钟、负荷为14g/mm2、拉伸模式的条件对包含所述嵌段聚酰亚胺的膜进行TMA测定,所得的热膨胀系数为30ppm/K以下。
8. 如权利要求1所述的电路基板,包含所述嵌段聚酰亚胺的膜的、依据JIS K 7105所测定的全光线透过率为80%以上。
9. 一种层间绝缘膜用材料,包括嵌段聚酰胺酸酰亚胺,所述嵌段聚酰胺酸酰亚胺包括:由下述式(2A)所表示的重复结构单元构成的嵌段和由下述式(2B)所表示的重复结构单元构成的嵌段,
[化3]
式(2A)或式(2B)中,
m表示式(2A)所表示的重复结构单元的重复数,n表示式(2B)所表示的重复结构单元的重复数,且
当将嵌段聚酰胺酸酰亚胺中含有的式(2A)所表示的重复结构单元的总数除以由式(2A)所表示的重复结构单元构成的嵌段的数量所得的值设为m的平均值,将嵌段聚酰胺酸酰亚胺中含有的式(2B)所表示的重复结构单元的总数除以由式(2B)所表示的重复结构单元构成的嵌段的数量所得的值设为n的平均值时,1>m的平均值/(m的平均值 n的平均值)>0.95,且0.05>n的平均值/(m的平均值 n的平均值)>0,
R和R”分别独立地为碳原子数4~27的四价基团,且为单环式脂肪族基、稠合多环式脂肪族基、单环式芳香族基或稠合多环式芳香族基、或者为环式脂肪族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式脂肪族基、或者为芳香族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式芳香族基,
R’为碳原子数4~51的二价基团,且为单环式脂肪族基、稠合多环式脂肪族基、或者环式脂肪族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式脂肪族基,但是单环式脂肪族基不包括1,4-亚环己基。
10. 如权利要求9所述的层间绝缘膜用材料,所述m的平均值与n的平均值分别独立地为2~1000。
11. 如权利要求9所述的层间绝缘膜用材料,包含所述式(2B)所表示的重复结构单元的聚酰亚胺能溶解在非质子性极性溶剂中。
12. 如权利要求9所述的层间绝缘膜用材料,0.99>m的平均值/(m的平均值 n的平均值)>0.95,且0.05>n的平均值/(m的平均值 n的平均值)>0.01。
13. 如权利要求9所述的层间绝缘膜用材料,在N-甲基-2-吡咯烷酮溶剂中或在N,N-二甲基乙酰胺溶剂中,以浓度0.5g/dl、35℃所测定的嵌段聚酰胺 酸酰亚胺的对数粘度的值为0.1dl/g~3.0dl/g。
14. 如权利要求9所述的层间绝缘膜用材料,使包含所述嵌段聚酰胺酸酰亚胺的、残存溶剂量为10质量%且厚度为15μm的干膜浸渍于2.38质量%的氢氧化四甲基铵水溶液中后测定的20℃的溶解速度为5μm/分钟~60μm/分钟的范围。
15. 如权利要求1~8中任一项所述的电路基板,所述电路基板为悬挂基板或半导体封装基板。
16. 一种电路基板的制造方法,包括:
获得包含基板和含有权利要求9~14中任一项所述的层间绝缘膜用材料的层的叠层体的工序;
在所述叠层体的含有所述层间绝缘膜用材料的层上配置经图案化的光掩模的工序;
利用碱性水溶液对含有所述层间绝缘膜用材料的层的未被所述光掩模覆盖的部分进行显影处理,对含有所述层间绝缘膜用材料的层进行图案化的工序;以及
对经图案化的含有所述层间绝缘膜用材料的层进行加热,对所述层间绝缘膜用材料中含有的嵌段聚酰胺酸酰亚胺进行酰亚胺化的工序。”
国家知识产权局于2019年05月27日发出复审通知书,复审通知书中所依据的审查文本是:复审请求人于2019年04月04日提交的权利要求第1-16项,按照PCT条约第28或41条修改的说明书第1-34页,2015年10月21日提交的说明书摘要。
复审通知书中认为:关于创造性:(1)对于权利要求9,其与对比文件1的区别在于:权利要求9中m与n的比例关系与对比文件1不同。基于该区别特征,本申请实际解决的技术问题是提供一种与现有技术中嵌段聚酰胺酸酰亚胺材料效果相似的替代产品。对于该区别特征,本领域技术人员在对比文件1公开的聚合物结构的基础上,通过对m和n的比值进行常规的选择或调整,即可得到权利要求9所述的m和n的平均值的选择范围。因此权利要求9不具备创造性。(2)对于权利要求10-14,其中权利要求10、11和13的附加技术特征均已经被对比文件1公开;权利要求12所限定的数值范围也是本领域技术人员在对比文件1的数值范围基础上,进行常规的选择或调整即可得到的;权利要求14所记载的性能参数特征无法将权利要求14的产品与对比文件1公开的产品区分开。因此,权利要求10-14也不具备创造性。
针对复审请求人的意见陈述,合议组认为:(1)关于技术领域或产品用途,权利要求9的用途限定并不能将本申请和对比文件1的两种聚酰胺酸酰亚胺材料区分开,可推定对比文件1公开的聚酰胺酸酰亚胺材料同样也能够用于层间绝缘膜。(2)关于技术效果,本申请的实施例2-5所能达到的技术效果可以用于代表权利要求9的技术方案所能达到的技术效果,通过对比权利要求9和对比文件1的技术效果,无法看出权利要求9相对于对比文件1取得了更加优异的技术效果。因此复审请求人陈述的意见不具有说服力。
复审请求人于2019年07月04日提交了意见陈述书,并且提交了权利要求书的修改替换页(共4页,15项)。修改之处在于:删除了原权利要求9-14,修改了原权利要求16,增加了从属权利要求11-15。其中涉及修改的权利要求项如下:
“10. 一种电路基板的制造方法,包括:
获得包含基板和含有包括嵌段聚酰胺酸酰亚胺的层间绝缘膜用材料的层的叠层体的工序;
在所述叠层体的含有所述层间绝缘膜用材料的层上配置经图案化的光掩模的工序;
利用碱性水溶液对含有所述层间绝缘膜用材料的层的未被所述光掩模覆盖的部分进行显影处理,对含有所述层间绝缘膜用材料的层进行图案化的工序;以及
对经图案化的含有所述层间绝缘膜用材料的层进行加热,对所述层间绝缘膜用材料中含有的嵌段聚酰胺酸酰亚胺进行酰亚胺化的工序,
所述嵌段聚酰胺酸酰亚胺包括:由下述式(2A)所表示的重复结构单元构成的嵌段和由下述式(2B)所表示的重复结构单元构成的嵌段,
式(2A)或式(2B)中,
m表示式(2A)所表示的重复结构单元的重复数,n表示式(2B)所表示的重复结构单元的重复数,且
当将嵌段聚酰胺酸酰亚胺中含有的式(2A)所表示的重复结构单元的总数除以由式(2A)所表示的重复结构单元构成的嵌段的数量所得的值设为m的平均值,将嵌段聚酰胺酸酰亚胺中含有的式(2B)所表示的重复结构单元的总数除以由式(2B)所表示的重复结构单元构成的嵌段的数量所得的值设为n的平均值时,1>m的平均值/(m的平均值 n的平均值)>0.95,且0.05>n的平均值/(m的平均值 n的平均值)>0,
R和R”分别独立地为碳原子数4~27的四价基团,且为单环式脂肪族基、稠合多环式脂肪族基、单环式芳香族基或稠合多环式芳香族基、或者为环式脂肪族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式脂肪族基、或者为芳香族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式芳香族基,
R’为碳原子数4~51的二价基团,且为单环式脂肪族基、稠合多环式脂肪族基、或者环式脂肪族基直接或通过交联基团相互连结而成的非稠合多环式脂肪族基,但是单环式脂肪族基不包括1,4-亚环己基。
11. 如权利要求10所述的电路基板的制造方法,所述m的平均值与n的 平均值分别独立地为2~1000。
12. 如权利要求10所述的电路基板的制造方法,包含所述式(2B)所表示的重复结构单元的聚酰亚胺能溶解在非质子性极性溶剂中。
13. 如权利要求10所述的电路基板的制造方法,0.99>m的平均值/(m的平均值 n的平均值)>0.95,且0.05>n的平均值/(m的平均值 n的平均值)>0.01。
14. 如权利要求10所述的电路基板的制造方法,在N-甲基-2-吡咯烷酮溶剂中或在N,N-二甲基乙酰胺溶剂中,以浓度0.5g/dl、35℃所测定的嵌段聚酰胺酸酰亚胺的对数粘度的值为0.1dl/g~3.0dl/g。
15. 如权利要求10所述的电路基板的制造方法,使包含所述嵌段聚酰胺酸酰亚胺的、残存溶剂量为10质量%且厚度为15μm的干膜浸渍于2.38质量%的氢氧化四甲基铵水溶液中后测定的20℃的溶解速度为5μm/分钟~60μm/分钟的范围。”
在上述程序的基础上,合议组认为本案事实已经清楚,可以作出审查决定。
二、决定的理由
1、关于审查文本
复审请求人于2019年07月04日提交了修改后的权利要求书(共4页,15项)。经核实,上述修改符合专利法实施细则第61条第1款和专利法第33条的规定。
因此,本复审请求审查决定依据的文本为:复审请求人于2019年07月04日提交的权利要求第1-15项,按照PCT条约第28或41条修改的说明书第1-34页,于2015年10月21日提交的说明书摘要(下称复审决定文本)。
2、关于新颖性
专利法第22条第2款规定:新颖性,是指该发明或者实用新型不属于现有技术;也没有任何单位或个人就同样的发明或实用新型在申请日以前向专利局提出过申请,并记载在申请日以后(含申请日)公布的专利申请文件或者公告的专利文件中。
如果一份对比文件没有公开一项权利要求的全部技术特征,即该项权利要求的技术方案与对比文件的技术方案实质上不同,则该项权利要求相对于该对比文件具备新颖性。
就本案而言:
(1)权利要求1要求保护一种电路基板(具体参见案由部分)。对比文件1公开了一种嵌段聚酰亚胺(参见说明书第4-24段),并具体公开了包括:由下述式(2A)所表示的重复结构单元构成的嵌段和由下述式(1B)所表示的重复结构单元构成的嵌段:
[化1]
式(2A)或式(1B)中,m和n分别表示式(2A)和式(1B)所表示的重复结构单元的重复数,且 m的平均值:n的平均值=5:5-9.5:0.5,R为四价的脂肪族基、单环式脂肪族基等基团,R”的可选基团与R相同,m的平均值与n的平均值分别独立地为2~1000。另外,对比文件1制备的产品为液晶取向膜。
权利要求1与对比文件1之间存在以下区别特征:①权利要求1要求保护的主题为电路基板,并进一步限定了其构造,而对比文件1涉及的产品为液晶取向膜;②权利要求1的嵌段共聚物中,m与n的比例关系和对比文件1不同,其中权利要求1限定m平均值与n平均值比例关系为:1>m的平均值/(m的平均值 n的平均值)>0.95,且0.05>n的平均值/(m的平均值 n的平均值)>0。由上述区别特征可知,权利要求1所要求保护的产品主题电路基板并没有被对比文件1公开,且该修改后的权利要求1已明确排除了对比文件1所公开的9.5:0.5的端点值,目前的权利要求1所限定的数值范围与对比文件1所记载的数值范围既不存在端点重合,也不存在数值范围交叉的情形。因此,权利要求1相对于对比文件1具备专利法第22条第2款规定的新颖性。
(2)权利要求10要求保护一种电路基板的制造方法。对比文件1公开了一种嵌段聚酰胺酸酰亚胺材料(参见对比文件1的说明书第[0016]-[0042]段),并具体公开了包括:由下述式(1A)所表示的重复结构单元构成的嵌段和由下述式(1B)所表示的重复结构单元构成的嵌段:
[化7]
式(1A)和式(1B)中, R、R”、R’、m与n的定义及取值范围与前述[化1]相同。另外对比文件1制备的产品为液晶取向膜。
权利要求10与对比文件1之间存在以下区别特征:①权利要求10的主题为电路基板的制造方法,并限定了其构造和制备工序;②权利要求10中m与n的比例关系和对比文件1不同。权利要求10已明确排除了对比文件1所公开的9.5:0.5的端点值,目前的权利要求10所限定的数值范围与对比文件1所记载的数值范围既不存在端点重合,也不存在数值范围交叉的情形。因此,权利要求10相对于对比文件1具备专利法第22条第2款规定的新颖性。
(3)由于权利要求2-9和11-15都直接或间接地引用了权利要求1或10,因此在权利要求1和10具备新颖性的基础上,权利要求2-9和11-15同样也具备专利法第22条第2款规定的新颖性。
3、关于创造性
专利法第22条第3款规定:创造性,是指与现有技术相比,该发明具有突出的实质性特点和显著的进步,该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求所要求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在区别特征,而现有技术没有给出将上述区别特征应用到该最接近的现有技术以解决其存在的技术问题的启示,且上述区别特征的引入使该权利要求的整体技术方案相对于现有技术而言具有有益的技术效果,则该项权利要求所要求保护的技术方案具备创造性。
(1)权利要求1要求保护一种电路基板(具体参见案由部分)。由上述评述可知,权利要求1与对比文件1之间存在以下区别特征:①权利要求1的主题为电路基板,并限定了其构造;②权利要求1中m与n的比例关系和对比文件1不同。
根据本申请说明书的记载可知,本申请要解决的技术问题是:现有技术中的嵌段聚酰胺酸酰亚胺的层对于碱性水溶液的溶解性低,未能利用碱性水溶液进行图案化;另一方面,包含聚酰胺酸的层因过度地溶解,存在无法进行高精度图案化的缺陷。本申请要制备出一种具有对碱性水溶液适度溶解性的嵌段聚酰胺酸酰亚胺、以及使用该嵌段聚酰胺酸酰亚胺所获得的具有高透明性和低CTE的嵌段聚酰亚胺(参见说明书第1页最后一段至第2页第1段)。在此基础上本申请将制备的嵌段聚酰亚胺用于电路基板的层间绝缘膜用材料,包含该感光性树脂组合物的层可通过显影处理来进行对应于光掩膜图案的高精度图案化,且所获得的经图案化的含有其嵌段聚酰亚胺的层具有低CTE,可减少所获得的电路基板的由热等所引起的翘曲(参见说明书第15页第8段-第17页第2段)。
为证明本申请的技术方案所能取得的技术效果,本申请说明书记载了实施例1-6和比较例1-10。其中实施例1中记载了m的平均值与n的平均值之间的组成比为9.8:0.2,实施例2-5为9.5:0.5,实施例6为9.1:0.9,比较例1-2为9:1,比较例3为8:2,比较例4为7.8:2.2,比较例6和7为1:0。另外,比较例5、8-10显示了由其他原料体系所得聚酰亚胺的技术效果。其中溶解性能方面,从表2看,比较例1-4(m:n不高于9:1)制备的干膜无法溶解,实施例1-6的干膜可以溶解。比较例6和7的技术方案中由于不含有酰亚胺寡聚物(2B)嵌段,溶解速度过快而出现了不期望的超溶解现象;在热膨胀系数CTE方面,实施例1-6的CTE值均不高于10ppm/K,其中实施例1-4的CTE值均为7ppm/K;耐热性方面,实施例1-6的玻璃化温度Tg的范围处于294-305℃之间。
对比文件1所涉及的产品为液晶取向膜(参见对比文件1的说明书第4-18段),其发明目的是为了提高液晶取向膜的无色透明性(抑制白浊和黄变)的同时,提高液晶取向性能,并适当的控制其聚酰亚胺材料的CTE值。因此,权利要求1要求保护的技术方案相对于对比文件1而言实际解决的技术问题是:提供一种由热等所引起的翘曲得到改善并且热稳定性好的图案化电路基板。
对于区别特征(1)和(2),本申请和对比文件1制备的产品不同,要解决的技术问题不同,要求聚酰亚胺膜的技术效果也不相同。本申请利用了在一定的m、n比例下特定结构的聚酰胺酸所具有的碱可溶解性,将其制成可显影的层,然后经过图案化操作(使选定区域的聚酰胺酸层酰亚胺化)生成经图案化的聚酰亚胺层。对比文件1虽然公开了与本申请结构相似的嵌段聚酰亚胺基体材料,但既没有关注到本申请特定m、n比例的聚酰胺酸的特定溶解性能能够被用于电路制造中的图案化操作,也没有关注到电路基板产品的制备。液晶取向膜和图案化的电路基板属于不同的领域,站位于对比文件1的本领域技术人员不会产生提供一种图案化电路基板的技术问题,更没有意识到特定m、n比例的聚酰胺酸适宜用于电路基板制备中的图案化操作。因此,没有任何动机将特定m、n比例的聚酰胺酸用于电路基板,以得到具有[化1]结构的图案化聚酰亚胺层的电路基板。
对比文件2的发明目的是提供一种具有低热膨胀性嵌段聚酰亚胺及其前驱体及其用途(参见权利要求1和6,说明书第164-168段和表5),然而对比文件2既没有关注特定m、n值的特定结构的聚酰胺酸的溶解性能,也没有教导这种特定结构的聚酰胺酸的溶解性能适宜于电路基板制造中的图案化工艺。
因此,权利要求1无论是分别相对于对比文件1和对比文件2还是相对于其组合,对于本领域技术人员来说都是非显而易见的。
权利要求1的技术方案取得了“感光性树脂组合物层可通过显影处理来进行对应于光掩膜图案的高精度图案化,且所获得的经图案化的含有其嵌段聚酰亚胺的层具有低CTE,可减少所获得的电路基板的由热等所引起的翘曲”的有益技术效果。因此,权利要求1的技术方案具备突出的实质性特点和显著的进步,具备专利法第22条第3款规定的创造性。
(2)权利要求10要求保护一种电路基板的制造方法。参见以上评述可知,权利要求10与对比文件1之间存在以下区别特征:①权利要求10的主题为电路基板的制造方法,并限定了其构造和叠层体的制备工序;②权利要求10中m与n的比例关系和对比文件1不同。权利要求10要求保护的技术方案相对于对比文件1而言实际解决的技术问题是:提供一种由热等所引起的翘曲得到改善并且热稳定性好的图案化电路基板的制备方法。但是,基于与权利要求1相同的评述理由可知,权利要求10也具备突出的实质性特点和显著的进步,具备专利法第22条第3款规定的创造性。
(3)由于权利要求2-9和11-15都直接或间接地引用了权利要求1或10,因此在权利要求1和10具备创造性的基础上,权利要求2-9和11-15同样也具备专利法第22条第3款规定的创造性。
4、关于原审查部门提出的意见
国家知识产权局原审查部门在驳回决定和前置意见审查书中均认为:(1)对比文件2给出了将嵌段聚酰胺酸聚酰亚胺用于制备层间绝缘膜、叠层体、电路基板的技术启示。(2)复审请求人所陈述的数值范围的含义既未记载在原说明书和权利要求书中,也不能从原说明书和权利要求书中直接地、毫无疑义地确定。
对此合议组认为:(1)对比文件1和2所要求保护的产品种类与技术主题并不相同,对比文件2既没有给出将对比文件1的液晶取向膜转用于本申请所述的经显影处理后图案化的层间绝缘膜的技术启示,也没有给出如何通过调整聚酰亚胺的构造来提高聚酰亚胺膜的碱溶液溶解性能的技术启示,具体详见对权利要求1的评述。(2)对于m和n比例关系表达形式的修改,合议组考察了本申请说明书的内容:本申请原始权利要求书中仅记载了m的平均值:n的平均值=大于9.5:小于0.5~小于10:大于0。如果未对m的平均值与n的平均值之和进行限定,该比值将无实质的限定作用,因为无论“大于9.5:小于0.5”、还是“小于10:大于0”的比值范围都将无边界地覆盖全体数值。在此基础上,复审请求人之后结合说明书实施例公开的内容对上述数值范围进行了修改。而从说明书第23页表2中所列的实施例1-6所采用的m的平均值与n的平均值可以看出,所采用的m的平均值和n的平均值之和均为10,结合本领域通常的表达习惯可知,本申请中的m和n的比例关系式中,实质上是将m和n的实际取值经过等比例换算,最终归化为“m和n的和为10”的情况进行计算的。因此本领域技术人员可以认为权利要求书中所示的“m的平均值:n的平均值=大于9.5:小于0.5~小于10:大于0”,是以m和n的和等于10为基础进行运算的。为了使权利要求中m和n的比例关系更加明确,复审请求人将其重新表述为“1>m的平均值/(m的平均值 n的平均值)>0.95,且0.05>n的平均值/(m的平均值 n的平均值)>0”,该内容属于能够从原始申请文件中直接地、毫无疑义地确定的内容。因此,修改后的权利要求已经克服了驳回决定和前置审查意见中所指出的缺陷。
基于以上事实和理由,本案合议组作出如下审查决定。
三、决定
撤销国家知识产权局于2018年01月10日对本申请作出的驳回决定。由国家知识产权局原审查部门以下述文本为基础继续进行审批程序:
复审请求人于2019年07月04日提交的权利要求书第1-15项,按照PCT条约第28或41条修改的说明书第1-34页,2015年10月21日提交的说明书摘要。
如对本复审请求审查决定不服,根据专利法第41条第2款的规定,复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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