发明创造名称：在基材上沉积抗反射层的方法
外观设计名称：
决定号：193272
决定日：2019-10-25
委内编号：1F242519
优先权日：2011-02-11
申请（专利）号：201280008436.4
申请日：2012-02-06
复审请求人：帝斯曼知识产权资产管理有限公司
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：李莲莲
合议组组长：牛文婧
参审员：李阳
国际分类号：C03C17/25;G02B1/11
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果权利要求所要求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在区别技术特征，而现有技术中存在将该区别技术特征应用到该最接近现有技术以解决本申请实际所要解决技术问题的技术启示，则该权利要求不具有突出的实质性特点。
全文：
本复审请求涉及申请号为201280008436.4，名称为“在基材上沉积抗反射层的方法”的发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请人为帝斯曼知识产权资产管理有限公司，申请日为2012年2月6日，优先权日为2011年2月11日，公开日为 2013年10月23日 。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2017年9月30日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是： 权利要求1-9相对于对比文件2（US2008/0241373A1，公开日为2008年10月2日）和对比文件3（CN100509179C，授权公告日为2009年7月8日）及常规技术手段的结合不符合专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定所依据的文本为2013年8月9日提交的说明书第1-64段、说明书附图1-3、说明书摘要；2016年4月11日提交的权利要求第1-9项。驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种在透明的平坦基材上沉积抗反射层的方法，其包括下列步骤：
a)提供一种液体涂料组合物，其包含至少一种溶剂、至少一种无机氧化物前体和至少一种成孔剂；
b)将所述涂料组合物涂覆到基材上；
c)在环境条件下或在最高达80℃下干燥所涂覆的涂料层；并且
d)干燥之后固化所述涂料层；
其中在干燥期间，以0.5到6m/s的流速向所述基材提供气流，所述气体至少沿着所述基材的边缘及其相邻的区域流动，其中所述成孔剂是中空的二氧化硅纳米颗粒或具有二氧化硅壳和有机核的核-壳纳米颗粒。
2. 根据权利要求1的方法，其中，所述气体作为层流提供。
3. 根据权利要求1或2的方法，其中，所述流速在1和3m/s之间。
4. 根据权利要求1-3任意一项的方法，其中，所述气体至少在距所述基材的边缘约25mm的区域流动。
5. 根据权利要求1-4任意一项的方法，其中，所述气体是相对湿度为至多50％的空气。
6. 根据权利要求1-5任意一项的方法，其中，所述气体的温度比所述基材高至多25℃。
7. 根据权利要求1-6任意一项的方法，其中，所述溶剂是醇。
8. 根据权利要求1-7任意一项的方法，其中，所述无机氧化物前体包括金属醇盐。
9. 根据权利要求1-8任意一项的方法，其中，所述涂料组合物通过浸涂、辊涂或狭缝挤压涂布方法涂覆到所述基材上。”
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服,于2018年1月15日向国家知识产权局提出了复审请求，
但未修改申请文件。复审请求人认为：（1）本申请与对比文件2的区别还包括在固化之前，在环境条件下或
在最高达80℃下干燥所涂覆的涂料层。（2）本申请通过特定的干燥条件、气流施加方式以及成孔剂解决了如何降低涂层边缘效应的技术问题，对比文件3解决的是涂层均匀性的问题，无法给出解决本申请技术问题的技术启示。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年1月23日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2018 年12 月28 日向复审请求人发出复审通知书，指出：（1）参考对权利要求1的评述可知，对比文件2步骤c公开了在环境条件下或在最高达50℃下干燥所涂覆的涂料层，因此复审请求人所认为的“在环境条件下或在最高达80℃下干燥所涂覆的涂料层”不构成本申请与对比文件2的区别。（2）如前所述，对比文件2公开了在环境条件下或在最高达50℃下干燥所涂覆的涂料层，即对比文件2已经公开了本申请特定的干燥条件。对比文件3公开了以0.5到5m/s的流速向基材提供气流干燥涂层，从而降低涂层厚度差，虽然对比文件3没有公开通过提供气流干燥涂层能够降低边缘缺陷，但是所属领域技术人员在面对如何解决边缘缺陷的技术问题时，容易注意到基材边缘与相邻区域的微观形貌差别将导致涂层厚度差别可能是产生这一技术问题的重要因素，因此有动机尝试调整基材边缘与相邻区域的涂层厚度差进而消除涂覆涂层后产生的边缘缺陷，因此容易将对比文件3的方案用于对比文件2中，从而通过降低厚度差的方式消除边缘缺陷，其技术效果能够预料。此外，中空的二氧化硅纳米颗粒或具有二氧化硅壳和有机核的核-壳纳米颗粒是常规的成孔剂，本申请说明书第[0040]-[0043]段报道了以中空的二氧化硅纳米颗粒或具有二氧化硅壳和有机核的核-壳纳米颗粒作为成孔剂的多篇现有技术，已经对此进行了佐证。综上所述，合议组对复审请求人的意见不予支持。
复审请求人于2019 年1 月31 日提交了意见陈述书，同时修改了权利要求书，对权利要求1的具体修改方式为：进一步限定了涂料组合物的固含量，进一步限定了基材为玻璃板或片，并且固化在350℃至900℃下温度下进行，并修改了权利要求1的表述。复审请求人认为：（1）本申请在透明玻璃基材上制备涂层，含无机前体，涂料组合物的固含量较低，而对比文件3在有机基材上制备涂层，不含无机前体，涂料组合物固含量高。对比文件3有三个干燥工艺（起始干燥工艺、第一干燥工艺和第二干燥工艺），本申请实施例仅采用一步干燥。因此对比文件3与本申请的技术方案、制备方法不同，且干燥后，本申请的固含量增加比例高，技术效果更好。（2）本申请通过特定组成的涂料组合物、特定方向和流速的气体流以及特定的干燥温度和固化温度解决了如何降低涂层边缘效应的技术问题。通过本申请对比例和实施例的比较可知，本申请各技术特征之间相互作用，是一个整体，不能割裂。
新修改的权利要求1如下：
“1. 一种在透明的平坦基材上沉积抗反射层的方法，其包括下列步骤：
a)提供一种液体涂料组合物，其包含至少一种溶剂、至少一种无机氧化物前体和具有二氧化硅壳和有机核的核-壳纳米颗粒作为成孔剂，所述涂料组合物的固含量为至多约10质量％；
b)将所述涂料组合物涂覆到作为基材的透明的平坦玻璃板或片上，从而在基材上其边缘之间形成涂料层；
c)通过至少沿着所述基材的边缘及与所述基材的边缘相邻的区域向以0.5到6m/s的气体流速所述涂料层提供气体流，在最高达80℃或在环境条件下的干燥温度下干燥在基材上所涂覆的涂料层；并且
d)在350℃到900℃的固化温度下固化在基材上的所述涂料层；
其中所述成孔剂是中空的二氧化硅纳米颗粒或具有二氧化硅壳和有机核的核-壳纳米颗粒。”
合议组于2019 年4 月22 日再次向复审请求人发出复审通知书，指出：“固含量为至多约10质量%”这一技术特征既未记载在原申请文件中，也不能从原申请文件中直接的、毫无疑义地得出。因此权利要求1的修改超范围，不符合专利法第33条的规定。合议组还对权利要求1-9的创造性进行了假定评述。
复审请求人于2019 年8 月7 日提交了意见陈述书，同时修改了权利要求书，具体修改方式为：撤销权利要求1的固含量特征，将权利要求4补入权利要求1中，删除权利要求4,相应修改权利要求的编号。
新修改的权利要求1如下：
“1. 一种在透明的平坦基材上沉积抗反射层的方法，其包括下列步骤：
a)提供一种液体涂料组合物，其包含至少一种溶剂、至少一种无机氧化物前体和具有二氧化硅壳和有机核的核-壳纳米颗粒作为成孔剂；
b)将所述涂料组合物涂覆到作为基材的透明的平坦玻璃板或片上，从而在基材上其边缘之间形成涂料层；
c)通过至少沿着所述基材的边缘及与所述基材的边缘相邻约25mm的区域以0.5到6m/s的气体流速向所述涂料层提供气体流，在最高达80℃或在环境条件下的干燥温度下干燥在基材上所涂覆的涂料层；并且
d)在350℃到900℃的固化温度下固化在基材上的所述涂料层；
其中所述成孔剂是中空的二氧化硅纳米颗粒或具有二氧化硅壳和有机核的核-壳纳米颗粒。”
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
（一）审查文本的认定
复审程序中，复审请求人于2019年8月7日提交了权利要求书的修改替换页，经合议组审查后认为，所做修改符合专利法第33条的规定和专利法实施细则第61条第1款的规定。本复审请求审查决定针对的审查文本为：2013年8月9日提交的说明书第1-64段、说明书附图1-3、说明书摘要；2019年8月7日提交的权利要求第1-8项。
（二）专利法第22条第3款
创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步。
如果权利要求所要求保护的技术方案与最接近的现有技术相比存在区别技术特征，而现有技术中存在将该区别技术特征应用到该最接近现有技术以解决本申请实际所要解决技术问题的技术启示，则该权利要求不具有突出的实质性特点。
1、权利要求1请求保护一种在透明的平坦基材上沉积抗反射层的方法。对比文件2公开了一种制备基材上的抗反射涂层的方法，具体公开了以下技术特征（参见对比文件2说明书第[0008]-[0011]、[0023]-[0027]段）：一种在透明的平坦基材上沉积抗反射层的方法，其包括下列步骤： a)提供一种液体涂料组合物，其包含含有Si和O的复合物如硅酸盐、硅烷醇、硅氧烷或硅烷（即无机氧化物前体），聚乙二醇（即成孔剂），强酸，至少两种醇类和水（即溶剂）； b)将所述涂料组合物以喷涂、浸涂、刷涂、或者旋涂的方式涂覆到基材上；c)在环境条件下或在最高达50℃下干燥所涂覆的涂料层；并且 d)固化所述涂料层形成SiO2。基材为玻璃。固化温度为：500-800℃。权利要求1所要求保护的技术方案与对比文件2相比，区别技术特征在于：（1）权利要求1限定了在干燥期间，以0.5到6m/s的流速向所述涂料层提供气流，所述气体至少沿着所述基材的边缘约25mm的区域及其相邻的区域流动。 （2）权利要求1限定的成孔剂是中空的二氧化硅纳米颗粒或具有二氧化硅壳和有机核的核-壳纳米颗粒。基于上述区别技术特征，可以确定本申请实际解决的技术问题是如何减少或预防边缘缺陷，获得符合需求的抗反射层。
对于上述区别（1）：分析可知，由于切割等原因，基材边缘相对较尖，因此易于产生与相邻区域厚度不同的涂层，进而造成边缘缺陷，为减轻该边缘缺陷，所属领域技术人员有动机尝试降低边缘与相邻区域的涂层厚度差，并对其效果加以验证。对比文件3公开了一种形成涂覆层的方法，具体公开了以下技术特征（参见对比文件3说明书第2页第17行-第3页第13行）：一种通过以下工艺用于制造涂覆片材以形成涂覆层的方法，包括用于将包括树脂材料和溶剂的涂布液体涂覆到基材上的工艺(1)，和用于干燥涂覆液体的干燥工艺(2)，其中干燥在具有平均风速10m/s或更低的干燥风流下进行，直至涂覆液体在干燥工艺(2)中的粘度在干燥温度下达到至少50[mPa?s]。干燥风流的平均风速优选设定为5m/s或更低，这样防止在涂覆表面内的干燥不均匀和形成均匀涂覆膜。另外，由于干燥风流的过低的平均风速延长了干燥时间，平均风速优选设定不低于0.5m/s。可见对比文件3给出了以0.5到5m/s的流速向基材提供气流干燥涂层，从而降低涂层厚度差的技术启示。所属领域技术人员将其用于对比文件2以改进技术方案是显而易见的。而气体沿着基材的边缘相邻约25mm的区域流动进行干燥从而有针对性的改善边缘涂层厚度均匀性为本领域技术人员根据实际需要容易作出的常规选择。
对于上述区别（2）：对比文件2公开了使用聚乙二醇，并公开了在加热固化步骤中，聚乙二醇热解或烧尽，在氧化硅膜中留下孔隙（参见对比文件2说明书第[0027]段）。可见对比文件2使用有机聚合物作为成孔剂。而中空的二氧化硅纳米颗粒或具有二氧化硅壳和有机核的核-壳纳米颗粒是常规的无机成孔剂，由于有机成孔剂会造成膜层机械强度降低，因此所属领域技术人员能够想到用中空的二氧化硅纳米颗粒或具有二氧化硅壳和有机核的核-壳纳米颗粒替代对比文件2中的聚乙二醇作为成孔剂，其未带来难以预料的技术效果。
由此可知，在对比文件2的基础上结合对比文件3和本领域的常规技术手段得到权利要求1所要求保护的技术方案，对本领域的技术人员来说是显而易见的，权利要求1不具有突出的实质性特点，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2、权利要求2-5进一步限定了气体的形式、流速、种类、温度等，对比文件3公开了风速为0.5到5m/s，使用热风机在干燥空气流下进行，干燥温度是约30-200℃（参见对比文件3说明书第3页第1-13行，第9页第19-23行），在对比文件3的上述启示下，为防止空气流对涂布液带来不利影响，所属领域技术人员能够根据常规经验合理控制空气流的流速、温度等参数以获得层流以及稳定的工艺条件。结合对其引用的权利要求的分析可知，权利要求2-5不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
3、权利要求6-8进一步限定了溶剂、无机氧化物前提、涂布方式，对比文件2公开了涂料组合物含至少两种醇，无机氧化物前体为TEOS，液体组合物通过喷涂、浸涂、刷涂、或者旋涂的方式涂覆到基材上（参见对比文件2说明书第[0020]、[0025]、[0042]段），落入权利要求6-8的保护范围，结合对其引用的权利要求的分析可知，权利要求6-8不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（三）对复审请求人相关意见的评述
复审请求人认为：（1）本申请采用权利要求1限定的特征组合解决了如何“减少在延伸的边缘区域中偏
离光学性质的量”的技术问题。对比文件3用树脂涂布基材并干燥形成抗反射层，不涉及玻璃的抗反射涂层，涉及的是用于光学显示成像的聚合物膜的涂布，对比文件3无法给出解决本申请技术问题的技术启示。（2）对比文件3没有公开或教导沿基材边缘的偏离光学性质，因此对比文件3无法与对比文件2结合。即使对比文件3与对比文件2结合，也只能将对比文件3的树脂、基材和干燥技术一起应用于对比文件2。（3）对比文件3教导的干燥温度是30-200℃，对比文件2公开的是在500-800℃下加热固化膜，如果将对比文件3的树脂涂料和基材加热至500-800℃，会使对比文件3的树脂涂料和基材熔化，因此对比文件3和对比文件2的技术方案不相容。
对此，合议组认为：（1）虽然对比文件3公开的是用树脂涂布基材并干燥形成抗反射层，但是对比文件3明确提及了通过干燥风流进行干燥以获得均匀涂膜。如上述对权利要求1区别（1）的评述可知，为解决被涂布基材边缘区域光学质量不高的技术问题，所属领域技术人员经过简单推理便容易想到边缘区域涂膜均匀性是提高光学质量的关键，而对比文件3给出了获得均匀涂膜的技术启示，即对比文件3客观上已经给出解决本申请技术问题的技术启示。（2）对比文件3没有公开或教导沿基材边缘的偏离光学性质，但是对比文件3公开了通过干燥风流进行干燥以获得均匀涂膜，而获得均匀涂膜便能够解决偏离光学性质的问题对所属领域技术人员而言是显而易见的。对比文件2、3都涉及涂层的制备，技术领域相同，并不存在结合的障碍。对比文件3给出了通过干燥风流进行干燥以获得均匀涂膜的技术启示，所属领域技术人员能够有选择地将该技术手段用于对比文件2中，而并非如复审请求人所述，只能将对比文件3的树脂、基材和干燥技术一起应用于对比文件2。（3）对比文件2公开了在环境条件下或在最高达50℃下干燥所涂覆的涂料层，并且固化所述涂料层形成SiO2，固化温度为：500-800℃。对比文件3公开的30-200℃是干燥温度，对比文件3的“干燥温度30-200℃”与对比文件2“固化温度500-800℃”是两种不同的温度，不存在矛盾。至于复审请求人所提及的将对比文件3的树脂涂料和基材加热至500-800℃，并不在讨论之列。综上，合议组对复审请求人的主张不予支持。
基于上述事实和理由，本案合议组作出如下决定。
三、决定
维持国家知识产权局于2017年9 月30 日对本申请作出的驳回决定。
如对本复审请求审查决定不服,根据专利法第41条第2款的规定,复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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