发明创造名称：Cu-Ga合金溅射靶及其制造方法
外观设计名称：
决定号：188696
决定日：2019-08-26
委内编号：1F254672
优先权日：2014-01-28
申请（专利）号：201480060592.4
申请日：2014-11-18
复审请求人：三菱综合材料株式会社
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：闫蕾
合议组组长：彭梅香
参审员：赵义强
国际分类号：C23C14/34，B22F1/00，B22F3/10，C22C1/04，C22C1/05，C22C9/00，HO1L31/0749
外观设计分类号：
法律依据：专利法实施细则第63条第2款
决定要点
：复审请求人经过修改的申请文件克服了驳回决定、前置意见以及复审通知书中所指出的全部缺陷，则在新修改的文本基础上撤销原驳回决定
全文：
本复审请求涉及申请号为201480060592.4，发明名称为“Cu-Ga合金溅射靶及其制造方法”的发明专利申请（下称本申请）。本申请的申请人为三菱综合材料株式会社，申请日为2014年11月18日，优先权日为2014年1月28日，公开日为2016年6月22日。
经实质审查，国家知识产权局原审查部门于2018年4月28日发出驳回决定，驳回了本申请，其理由是：权利要求4和5的修改不符合专利法第33条的规定。具体原因在于：权利要求4和5中“成为低于所述温度的范围的低温之后，在冷却的所述烧结体中，以与所述冷却速度的范围相比大的冷却速度冷却所述烧结体以维持所述γ相粒子分散于所述γ1相晶粒的组织”中对“成为低于所述温度的范围的低温之后”的冷却速度的限定未明确地记载在原说明书和权利要求书中，也不能由原说明书和权利要求书所记载的内容直接地、毫无疑义地确定。驳回决定所依据的文本为：申请人于2016年5月5日提交的说明书、说明书附图、说明书摘要、摘要附图以及其于2017年11月29日提交的权利要求第1-5项。驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种Cu-Ga合金溅射靶，其为具有如下组成的烧结体：29.5～43.0原子％的Ga以及剩余部分为Cu和不可避免的杂质，其中，
所述烧结体中的Cu-Ga合金晶粒具有γ相粒子分散于γ1相晶粒中的组织，
所述烧结体的氧量为200质量ppm以下，
所述γ相的平均粒子数在一个γ1晶粒中为6～36个，
所述γ1相的平均粒径为15.0～47.7μm。
2. 根据权利要求1所述的Cu-Ga合金溅射靶，其中，
所述烧结体进一步含有0.05～10.0原子％的Na，
Na化合物相分散于所述烧结体中。
3. 根据权利要求2所述的Cu-Ga合金溅射靶，其中，
所述Na化合物相由NaF、Na2S、Na2Se及Na3AlF6的至少一种以上构成。
4. 一种Cu-Ga合金溅射靶的制造方法，其为制造权利要求1所述的Cu-Ga合金溅射靶的方法，该方法具有如下工序：
将由纯Cu粉末与Cu-Ga合金粉末的混合粉末构成的成型体一边以10～100L/min使还原性气体流通，一边加热而进行常压烧结；
将得到的烧结体在温度450～650℃的范围内以0.1～1.0℃/min的冷却速度冷却；以及
成为低于所述温度的范围的低温之后，在冷却的所述烧结体中，以与所述冷却速度的范围相比大的冷却速度冷却所述烧结体以维持所述γ相粒子分散于所述γ1相晶粒的组织。
5. 一种Cu-Ga合金溅射靶的制造方法，其中，其为制造权利要求2或3所述的Cu-Ga合金溅射靶的方法，该方法具有如下工序：
将由纯Cu粉末、Cu-Ga合金粉末及Na化合物的混合粉末构成的成型体一边以10～100L/min使还原性气体流通，一边加热而进行常压烧结；
将得到的烧结体在温度450～650℃的范围内以0.1～1.0℃/min的冷却速度冷却；以及
成为低于所述温度的范围的低温之后，在冷却的所述烧结体中，以与所述冷却速度的范围相比大的冷却速度冷却所述烧结体以维持所述γ相粒子分散于所述γ1相晶粒的组织。”
申请人（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年6月26日向国家知识产权局提出了复审请求，未对申请文件进行修改。复审请求人认为：“与所述冷却速度的范围相比大的冷却速度”应当理解为“冷却速度”大于该范围的最大值（即1.0℃/min）。说明书第[0070]、[0075]及[0078]段分别记载了冷却速度为“通常的冷却速度”和“自然冷却”，由上述记载均能够确定“自然冷却”和“通常的冷却速度”必然大于1℃/min。因此，上述修改不超范围。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年7月2日依法受理了该复审请求，并将其转送至原审查部门进行前置审查。
原审查部门在前置审查意见书中坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年7月1日向复审请求人发出复审通知书，指出：说明书第[0070]、[0075]段和实施例1-13记载了“通常的冷却速度以维持细微的γ相粒子分散于γ1相晶粒中的组织”，或者为“自然冷却”。增加的特征“成为低于所述温度的范围的低温之后”，其包含450℃的温度以下，也包括低于450-650℃范围内的任意温度，同时， 增加的特征“以与所述冷却速度的范围相比大的冷却速度”，其包含了冷却速度大于所述冷却速度范围的“通常的冷却速度”或者“自然冷却”，也包含了冷却速度大于0.1-1.0℃/min的速度的任意冷却速度，而在原始申请文件中仅记载了前一种情况（参见说明书第0070、0075、0078段），即上述后一种理解的技术方案不能从原说明书和权利要求书记载的范围中直接地、毫无疑义地确定，即其修改超出了原说明书和权利要求书记载的范围，权利要求4-5的修改不符合专利法第33条的规定。
复审请求人于2019年8月14日提交了意见陈述书，并提交了权利要求书的修改替换页（共1页3项）,其修改删除了权利要求4-5。复审请求人认为：新修改的权利要求书删除了权利要求4和5，克服了不符合专利法第33条规定的缺陷。
在上述程序的基础上，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
1、审查文本
复审程序中，复审请求人于2019年8月14日提交了权利要求书的全文修改替换页（共1页3项）。本复审请求审查决定针对的审查文本为：复审请求人于2019年8月14日提交的权利要求第1-3项，以及其于2016年5月5日提交的说明书，说明书附图，说明书摘要和摘要附图。
2、专利法实施细则第63条第2款
专利法实施细则第63条第2款规定：专利复审委员会进行复审后，认为原驳回决定不符合专利法和本细则有关规定的，或者认为经过修改的专利申请文件消除了原驳回决定指出的缺陷的，应当撤销原驳回决定，由原审查部门继续进行审查程序。
对于本案而言，复审请求人新修改的权利要求书中删除了权利要求4和5，克服了复审通知书、前置意见以及驳回决定中指出的权利要求4-5不符合专利法第33条的缺陷，应当撤销驳回决定，由原审查部门继续进行审查程序。
基于以上事实和理由，合议组作出如下审查决定。
三、决定
撤销国家知识产权局于2018年4月28日对本申请作出的驳回决定。由国家知识产权局原审查部门在本复审请求审查决定所针对的审查文本的基础上对本申请继续进行审查。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
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