发明创造名称：光致抗蚀剂组合物
外观设计名称：
决定号：188224
决定日：2019-08-27
委内编号：1F257309
优先权日：2011-12-13、2012-12-10
申请（专利）号：201280061667.1
申请日：2012-12-11
复审请求人：东进世美肯株式会社
无效请求人：
授权公告日：
审定公告日：
专利权人：
主审员：杨婷
合议组组长：安蕾
参审员：王小燕
国际分类号：G03F7/004,G03F7/075,G03F7/20,H01L21/027
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：如果一项权利要求请求保护的技术方案与作为最接近现有技术的对比文件公开的技术方案之间存在多个区别技术特征，其中对于某一区别技术特征而言，该篇对比文件没有给出对其改进的教导，也没有证据表明这一区别技术特征属于本领域的公知常识或常规技术手段，并且这一区别技术特征为该项权利要求的技术方案带来了实质性改变和有益的技术效果，则该篇对比文件和本领域的公知常识和\/或常规技术手段的结合不能影响该项权利要求的创造性。
全文：
本复审请求涉及申请号为201280061667.1、名称为“光致抗蚀剂组合物”的PCT发明专利申请（下称本申请），其国际申请日为2012年12月11日，优先权日为2011年12月13日、2012年12月10日，进入中国国家阶段日为2014年06月13日，公开日为2014年08月27日，申请人为东进世美肯株式会社。
国家知识产权局专利实质审查部门于2018年04月16日发出了驳回决定，驳回了本申请，其理由为：权利要求1-10不具备专利法第22条第3款规定的创造性。驳回决定针对的文本为：2017年08月15日提交的权利要求第1-10项、2014年06月17日提交的说明书第1-11页、进入中国国家阶段日2014年06月13日提交的原始国际申请文件的中文译文的说明书附图第1-2页、说明书摘要及摘要附图。
驳回决定中引用了如下对比文件：
对比文件1：CN101196688A，公开日：2008年06月11日。
驳回决定所针对的权利要求书如下：
“1. 一种光致抗蚀剂组合物，其特征在于，含有：
(a)丙烯酸类共聚物10～30重量％，该丙烯酸类共聚物将i)不饱和羧酸或其酐、ii)含环氧基的不饱和化合物、以及iii)烯烃类不饱和化合物聚合而制造且重量平均分子量为5,000～7,000；
(b)在末端基含有异氰酸酯基(-NCO)的硅烷偶联剂0.1～2重量％；
(c)感光剂1～15重量％；以及，
(d)剩余量的溶剂。
2. 根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于，
上述丙烯酸类共聚物使用：i)不饱和羧酸或其酐15～30重量份；ii)含环氧基的不饱和化合物15～30重量份；以及，iii)烯烃类不饱和化合物40～70重量份，作为单体进行聚合而成。
3. 根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于，
上述i)不饱和羧酸是甲基丙烯酸。
4. 根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于，
上述ii)含环氧基的不饱和化合物是甲基丙烯酸环氧丙酯。
5. 根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于，
上述iii)烯烃类不饱和化合物是苯乙烯、甲基丙烯酸-2-羟乙酯、丙烯酸异冰片酯的混合物。
6. 根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于，
上述光致抗蚀剂组合物进一步含有0.01～10重量％的可塑剂、UV稳定剂、自由基捕获剂、抗氧化剂、增感剂、或表面活性剂。
7. 一种基板的微细图案形成方法，包括利用光致抗蚀剂组合物在基板的氮化硅膜上形成半色调的工序，上述基板的微细图案形成方法的特征在于，
上述光致抗蚀剂组合物是权利要求1至6中任一项所述的光致抗蚀剂组合物。
8. 一种形成有微细图案的基板，其特征在于，
上述微细图案通过权利要求7所述的方法形成。
9. 根据权利要求8所述的形成有微细图案的基板，其特征在于，
上述微细图案的线宽具有0.1～4μm。
10. 一种电子器件，其特征在于，
包括权利要求8所记载的基板。”
驳回决定认为：1、独立权利要求1与对比文件1的实施例4相比，其区别在于：权利要求1使用的附着剂为在末端基含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂0.1～2重量％，而对比文件1的实施例4使用了N-苯基-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷，其实际解决的技术问题是提供具有类似提高组合物附着性效果的其他硅烷偶联剂。而该区别技术特征已经被对比文件1说明书部分所公开：C组分附着增强剂采用含氮原子基团的硅烷组合物，可以是异氰酸酯类硅烷化合物。C组分的含量范围为0.01~0.5质量%。在上述内容的启示下，本领域技术人员为了获得类似的提高组合物附着性的效果，完全可以合理选择该组分作为附着增强剂并选择上述含量。因此，权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。2、从属权利要求2-6的附加技术特征或者被对比文件1公开、或者属于本领域常规技术手段，因此从属权利要求2-6也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。3、独立权利要求7请求保护一种基板的微细图案的形成方法，其利用光致抗蚀剂组合物在基板的氮化硅膜上形成半色调，而利用光致抗蚀剂在基板的氮化硅膜上形成半色调属于本领域的公知常识。当其采用的权利要求1至6任一项所述的光致抗蚀剂组合物不具备创造性时，独立权利要求7也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。4、独立权利要求8请求保护权利要求7所述的方法形成的具有微细图案的基板，在权利要求7的方法不具备创造性的基础上，根据该方法形成的产品也不具备创造性；从属权利要求9的附加技术特征属于本领域公知常识，因此从属权利要求9也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。5、独立权利要求10请求保护一种包括权利要求8所述基板的电子器件，而将形成有微细图案的基板用于电子器件属于本领域公知常识。因此独立权利要求10也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
申请人东进世美肯株式会社（下称复审请求人）对上述驳回决定不服，于2018年08月01日向国家知识产权局提出了复审请求，并提交了权利要求书的全文修改替换页。具体修改涉及：将原权利要求2、5的附加技术特征加入权利要求1，同时删除了权利要求2和5，根据说明书第0025段记载的内容，对权利要求1中的烯烃类不饱和化合物的用量进行了限定。修改后的权利要求书如下：
“1. 一种光致抗蚀剂组合物，其特征在于，含有：
(a)丙烯酸类共聚物10～30重量％，该丙烯酸类共聚物将i)不饱和羧酸或其酐、ii)含环氧基的不饱和化合物、以及iii)烯烃类不饱和化合物聚合而制造且重量平均分子量为5,000～7,000；
(b)在末端基含有异氰酸酯基(-NCO)的硅烷偶联剂0.1～2重量％；
(c)感光剂1～15重量％；以及，
(d)剩余量的溶剂；
上述丙烯酸类共聚物使用：i)不饱和羧酸或其酐15～30重量份；ii)含环氧基的不饱和化合物15～30重量份；以及，iii)烯烃类不饱和化合物40～70重量份，作为单体进行聚合而成；
上述烯烃类不饱和化合物是由苯乙烯60～80、甲基丙烯酸-2-羟乙酯15～40、丙烯酸异冰片酯5～20的重量比混合而成。
2. 根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于，
上述i)不饱和羧酸是甲基丙烯酸。
3. 根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于，
上述ii)含环氧基的不饱和化合物是甲基丙烯酸环氧丙酯。
4. 根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其特征在于，
上述光致抗蚀剂组合物进一步含有0.01～10重量％的可塑剂、UV稳定剂、自由基捕获剂、抗氧化剂、增感剂、或表面活性剂。
5. 一种基板的微细图案形成方法，包括利用光致抗蚀剂组合物在基板的氮化硅膜上形成半色调的工序，上述基板的微细图案形成方法的特征在于，
上述光致抗蚀剂组合物是权利要求1至4中任一项所述的光致抗蚀剂组合物。
6. 一种形成有微细图案的基板，其特征在于，
上述微细图案通过权利要求5所述的方法形成。
7. 根据权利要求6所述的形成有微细图案的基板，其特征在于，
上述微细图案的线宽具有0.1～4μm。
8. 一种电子器件，其特征在于，
包括权利要求6所记载的基板。”
复审请求人认为：（1）权利要求1中限定了丙烯酸类共聚物各组分的重量份，而对比文件1的实施例4用的是摩尔比，按其摩尔比换算出来的质量比不属于本发明的范围，审查员没有对本发明的重量份和对比文件的摩尔%进行具体比较，只是通过推测认为如果想要表现出相同的技术效果，其含量也非常接近，这种判断具有事后诸葛亮的嫌疑。（2）实审审查员认为原权利要求5中的“甲基丙烯酸-2-羟乙酯”被对比文件1公开了、“苯乙烯、丙烯酸异冰片酯”属于常用的丙烯酸类共聚物，但原权利要求5限定的是“烯烃类不饱和化合物是苯乙烯、甲基丙烯酸-2-羟乙酯、丙烯酸异冰片酯的混合物”，三种化合物的混合物在对比文件1中没记载。并且修改后的权利要求1根据说明书0025段限定了重量混合比，对比文件1未公开相应的内容。
经形式审查合格，国家知识产权局于2018年08月10日依法受理了该复审请求，并将其转送至原专利实质审查部门进行前置审查。
原专利实质审查部门在前置审查意见书中坚持驳回决定。
随后，国家知识产权局成立合议组对本案进行审理。
合议组于2019年03月26日向复审请求人发出复审通知书，指出：1、独立权利要求1与对比文件1相比，区别在于：（1）权利要求1为封闭式权利要求，组合物不含有DPHA单体和表面活性剂。（2）权利要求1使用了末端基含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂0.1-2重量%，而对比文件1的实施例4使用了N-苯基-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷。（3）丙烯酸类共聚物使用：i)不饱和羧酸或其酐15～30重量份；ii)含环氧基的不饱和化合物15～30重量份；以及iii)烯烃类不饱和化合物40～70重量份，作为单体进行聚合而成；（4）烯烃类不饱和化合物是由苯乙烯60～80、甲基丙烯酸-2-羟乙酯15～40、丙烯酸异冰片酯5～20的重量比混合而成。区别技术特征（1）是在对比文件1的其他部分的技术启示下容易想到的；区别技术特征（2）被对比文件1的其他部分公开了并给出了技术启示；区别技术特征（3）是本领域常规技术手段；区别技术特征（4）是在对比文件1的其他部分的技术启示下容易想到的。因此独立权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。2、从属权利要求2-4的附加技术特征或者被对比文件1公开，或者属于本领域常规技术手段，因此从属权利要求2-4也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。3、独立权利要求5请求保护一种基板的微细图案的形成方法，其利用光致抗蚀剂组合物在基板的氮化硅膜上形成半色调，而利用光致抗蚀剂在基板的氮化硅膜上形成半色调属于本领域的公知常识。当其采用的权利要求1至4任一项所述的光致抗蚀剂组合物不具备创造性时，独立权利要求5也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。4、独立权利要求6请求保护权利要求5所述的方法形成的具有微细图案的基板，在权利要求5的方法不具备创造性的基础上，根据该方法形成的产品也不具备创造性，因此，权利要求6不具备专利法第22条第3款规定的创造性；从属权利要求7的附加技术特征属于本领域公知常识，因此从属权利要求7也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。5、独立权利要求8请求保护一种包括权利要求6所述基板的电子器件，而将形成有微细图案的基板用于电子器件属于本领域公知常识。因此独立权利要求8也不具备专利法第22条第3款规定的创造性。6、针对复审请求人的意见陈述进行了答复。
针对上述复审通知书，复审请求人于2019年07月10日提交了意见陈述书和权利要求书的全文修改替换页，具体修改涉及：将独立权利要求1的主题修改为“一种有机绝缘膜用光致抗蚀剂组合物”，并且适应修改了从属权利要求2-4的引用部分的主题；同时，根据说明书的记载，对权利要求1中的“感光剂”进一步限定为“上述(c)感光剂是1,2-醌二叠氮4-磺酸酯、1,2-醌二叠氮5-磺酸酯或1,2-醌二叠氮6-磺酸酯”。并且，复审请求人在意见陈述书中阐述了修改后的权利要求具备创造性的理由。此后，复审请求人于2019年08月13日再次提交了权利要求书的全文修改替换页，具体修改涉及：将独立权利要求1中的“甲基丙烯酸-2-羟乙酯”修改为“丙烯酸-2-羟乙酯”。修改后的权利要求书如下：
“1. 一种有机绝缘膜用光致抗蚀剂组合物，其特征在于，含有：
(a)丙烯酸类共聚物10～30重量％，该丙烯酸类共聚物将i)不饱和羧酸或其酐、ii)含环氧基的不饱和化合物、以及iii)烯烃类不饱和化合物聚合而制造且重量平均分子量为5,000～7,000；
(b)在末端基含有异氰酸酯基(-NCO)的硅烷偶联剂0.1～2重量％；
(c)感光剂1～15重量％；以及，
(d)剩余量的溶剂；
上述丙烯酸类共聚物使用：i)不饱和羧酸或其酐15～30重量份；ii)含环氧基的不饱和化合物15～30重量份；以及，iii)烯烃类不饱和化合物40～70重量份，作为单体进行聚合而成；
上述烯烃类不饱和化合物是由苯乙烯60～80、丙烯酸-2-羟乙酯15～40、丙烯酸异冰片酯5～20的重量比混合而成；
上述(c)感光剂是1,2-醌二叠氮4-磺酸酯、1,2-醌二叠氮5-磺酸酯或1,2-醌二叠氮6-磺酸酯。
2. 根据权利要求1所述的有机绝缘膜用光致抗蚀剂组合物，其特征在于，
上述i)不饱和羧酸是甲基丙烯酸。
3. 根据权利要求1所述的有机绝缘膜用光致抗蚀剂组合物，其特征在于，
上述ii)含环氧基的不饱和化合物是甲基丙烯酸环氧丙酯。
4. 根据权利要求1所述的有机绝缘膜用光致抗蚀剂组合物，其特征在于，
上述光致抗蚀剂组合物进一步含有0.01～10重量％的可塑剂、UV稳定剂、自由基捕获剂、抗氧化剂、增感剂、或表面活性剂。
5. 一种基板的微细图案形成方法，包括利用光致抗蚀剂组合物在基板的氮化硅膜上形成半色调的工序，上述基板的微细图案形成方法的特征在于，
上述光致抗蚀剂组合物是权利要求1至4中任一项所述的有机绝缘膜用光致抗蚀剂组合物。
6. 一种形成有微细图案的基板，其特征在于，
上述微细图案通过权利要求5所述的方法形成。
7. 根据权利要求6所述的形成有微细图案的基板，其特征在于，
上述微细图案的线宽具有0.1～4μm。
8. 一种电子器件，其特征在于，
包括权利要求6所记载的基板。”
复审请求人认为：（1）本申请涉及一种包括作为感光剂的醌二叠氮化合物的正感光性树脂组合物，目的在于提供一种用于提高与氮化硅膜的粘结力的有机绝缘膜用组合物。对比文件1公开的是包括光引发剂的负感光性树脂组合物，其必须使用光引发剂，经由光引发剂引发聚合使得感光性树脂组合物表现为负型感光性树脂组合物。对比文件1公开的组合物与本申请的组合物是完全不同的物质，二者图案形成原理完全不同。（2）对比文件1公开了组合物作为液晶显示装置间隔物的用途，而本申请涉及的是组合物作为有机绝缘膜的用途，二者感光性树脂组合物的用途完全不同。（3）本申请的感光性树脂组合物与氮化硅膜的粘结力优秀，使有机绝缘膜具有平坦性且防止产生涂敷斑纹，从而可形成均匀的图案轮廓；对比文件1中完全没有公开针对氮化硅的粘结力，仅涉及与本申请不同的基板材料的紧贴性，参照对比文件1的表3仅公开了针对玻璃、滤色镜、ITO、聚酰亚胺基板材料的效果。本申请的有机绝缘膜采用权利要求1的成分，按特定含量范围使用硅烷偶联剂，即使长时间放置，常温稳定性也很优秀；而对比文件1没有公开或暗示有这样的效果。因此，虽然对比文件1中使用的硅烷化合物的含量一部分重叠，但其感光性树脂组合物的构成与本申请完全不同。
在上述程序的基础上，合议组认为，本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
1．审查文本的认定
复审请求人于2019年08月13日提交了权利要求书的全文修改替换页，经查，该修改符合专利法第33条的规定。本复审请求审查决定所针对的文本为：复审请求人于2019年08月13日提交的权利要求第1-8项、2014年06月17日提交的说明书第1-11页、进入中国国家阶段日2014年06月13日提交的原始国际申请文件的中文译文的说明书附图第1-2页、说明书摘要及摘要附图。
2．关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步，该实用新型具有实质性特点和进步。
如果一项权利要求请求保护的技术方案与作为最接近现有技术的对比文件公开的技术方案之间存在多个区别技术特征，其中对于某一区别技术特征而言，该篇对比文件没有给出对其改进的教导，也没有证据表明这一区别技术特征属于本领域的公知常识或常规技术手段，并且这一区别技术特征为该项权利要求的技术方案带来了实质性改变和有益的技术效果，则该篇对比文件和本领域的公知常识和/或常规技术手段的结合不能影响该项权利要求的创造性。
具体到本案：
（1）权利要求1请求保护一种光致抗蚀剂组合物，对比文件1公开了一种感光性树脂组合物，并具体公开了以下内容（参见对比文件1说明书第2页倒数第8行至第9页第5行、第15页第5行至第17页第23行）：在基板上涂覆一种感光树脂组合物（即光致抗蚀剂组合物），透过负像掩模照射紫外线等活性能量线以对其局部曝光，经显影液显示后形成液晶面板用间隔物。该组合物含有：（A）光聚合性化合物、（B）光聚合引发剂、（C）附着增强剂等。其中（A）成分选择具有乙烯性不饱和基团的树脂或单体，更优选将所述树脂或单体加以组合；其中具有乙烯性不饱和基团的树脂为共聚物(A1)，其质量平均分子量Mw为5000-30000（与“5000-7000”有相同的端点）。在实施例4中，感光树脂组合物含有以下组分：（A）光聚合性化合物，包括：(A-2)树脂（相当于本申请的丙烯酸类共聚物），100重量份（换算为24.98重量%，处于“10-30%重量”的范围内），以及DPHA单体，30重量份；其中，(A-2)树脂中，由甲基丙烯酸（不饱和羧酸或其酐的下位概念）衍生的结构单元、由甲基丙烯酸缩水甘油酯（含环氧基的不饱和化合物的下位概念）衍生的结构单元、由苯乙烯（烯烃类不饱和化合物的下位概念）衍生的结构单元的摩尔比为20:40:40；（B）光引发剂，使用(B-1)乙酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-1-(邻乙酰基肟)，10重量份；（C）附着增强剂，使用N-苯基-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷，0.2重量份；此外，该感光树脂组合物还包括表面活性剂0.15重量份；余量为溶剂，使用160重量份的乙酸3-甲氧基丁酯和100重量份的环己酮的混合物。
权利要求1与对比文件1的实施例4相比，区别在于：（1）权利要求1的组合物用于形成有机绝缘膜，且不含有表面活性剂；（2）权利要求1使用了末端基含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂0.1-2重量%作为附着增强剂，而对比文件1的实施例4使用了N-苯基-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷。（3）丙烯酸类共聚物使用：i)不饱和羧酸或其酐15～30重量份；ii)含环氧基的不饱和化合物15～30重量份；以及iii)烯烃类不饱和化合物40～70重量份，作为单体进行聚合而成；（4）烯烃类不饱和化合物是由苯乙烯60～80、丙烯酸-2-羟乙酯15～40、丙烯酸异冰片酯5～20的重量比混合而成；（5）权利要求1为封闭式权利要求，组合物不含有DPHA单体，也不含光引发剂，而是含有感光剂1~15重量%，上述感光剂是：1,2-醌二叠氮4-磺酸酯、1,2-醌二叠氮5-磺酸酯或1,2-醌二叠氮6-磺酸酯。
基于上述区别技术特征，权利要求1实际解决的技术问题是：如何形成正性光致抗蚀剂组合物、并提高其附着性。
对此，合议组认为：
对于区别技术特征（1），本领域技术人员可以根据实际需要将光致抗蚀剂组合物用于形成绝缘膜；表面活性剂是感光性树脂组合物中的常用添加剂，本领域技术人员可以根据组合物的性质选择使用或者不使用表面活性剂，这属于本领域的常规技术手段。
对于区别技术特征（2），对比文件1说明书其他部分公开了（参见对比文件1说明书第11页第21-25行，说明书第8页倒数第2行-第9页第1行）：（C）组分采用含氮原子基团的硅烷组合物，可以是异氰酸酯类硅烷化合物；其含量范围优选为0.01-0.5%质量（与“0.1-2重量%”部分交叠）。并且上述技术特征在对比文件1中所起的作用与其在本申请中所起作用相同，都是为了提高组合物的附着性。对比文件1已经给出了采用异氰酸酯类硅烷化合物作为附着增强剂的技术启示。
对于区别技术特征（3），在对比文件1的实施4中，（A-2）树脂中由甲基丙烯酸衍生的结构单元、由甲基丙烯酸缩水甘油酯衍生的结构单元、由苯乙烯衍生的结构单元的摩尔比为20:40:40，经换算可得：甲基丙烯酸、甲基丙烯酸缩水甘油酯、苯乙烯的重量比为：14.8：49.1：36，该重量比与权利要求1中的数值范围比较接近。同时，本领域技术人员熟知：甲基丙烯酸对于显影性有影响，甲基丙烯酸缩水甘油酯对于热硬化性、耐化学品性有影响。因此，考虑到对于上述性能的实际需要，本领域技术人员可以通过常规的技术手段来调整上述各组分的比例，这属于常规技术手段。
对于区别技术特征（4），对比文件1说明书其他部分公开了（参见说明书第6页倒数第9行至第8页倒数第3行）：共聚物（A1）的结构单元（a3）可以是：丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸2-羟乙酯、苯乙烯等。即，对比文件1给出了与苯乙烯聚合单体并列选择的其他聚合单体，本领域技术人员可以获知这些单体与苯乙烯可以替换使用，能够达到相似的技术效果，因此，本领域技术人员可以根据实际需要选用其中的几种混合使用并合理设置它们的比例。
对于区别技术特征（5），权利要求1所限定的光致抗蚀剂组合物含有1,2-醌二叠氮4-磺酸酯、1,2-醌二叠氮5-磺酸酯或1,2-醌二叠氮6-磺酸酯。这类感光剂在曝光时产生酸，使得曝光部分的丙烯酸类共聚物在显影液中的溶解度增大。而对比文件1实施例4所公开的感光树脂组合物通过光引发剂引发具有不饱和基团的树脂或单体发生聚合反应，由此使得曝光部分的组合物在显影液中的溶解度显著降低，具体地，实施例4中的感光性树脂组合物在曝光时，曝光区域处的组合物中的光引发剂引发组合物中的DPHA发生聚合，由此形成在显影液中溶解度很小的固化部分，而未曝光的部分未发生上述聚合反应，该部分组合物能够溶于显影液中，因此，实施例4中的组合物为负型感光性树脂组合物，其中的光引发剂组合物和聚合性单体DPHA是该组合物的必要组分。由此可见，权利要求1的光致抗蚀剂组合物是正性的感光树脂组合物，而对比文件1实施例4的感光性树脂组合物是负性的，二者是两类性质完全不同的组合物，二者的曝光原理和图案形成机理完全不同。在对比文件1实施例4的基础上，本领域技术人员没有动机将该负性感光性树脂组合物中的光引发剂替换为权利要求1中限定的醌叠氮磺酸酯感光剂、也没有动机省略其中的用于在光引发剂的作用下进行聚合的DPHA单体。即：本领域技术人员没有动机将对比文件1的实施例4公开的负性感光树脂组合物改变为权利要求1所限定的正性光致抗蚀剂组合物。同时，也没有证据表明其属于本领域常规技术手段。并且，由于权利要求1的光致抗蚀剂组合物采用了1,2-醌二叠氮4-磺酸酯、1,2-醌二叠氮5-磺酸酯或1,2-醌二叠氮6-磺酸酯作为感光剂，使得曝光部分的丙烯酸类共聚物在显影液中的溶解度增大而形成图案，是一种正性感光树脂组合物，权利要求1配合使用末端含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂，使光致抗蚀剂针对氮化硅膜的粘结力优秀，产生了有益的技术效果。
因此，权利要求1相对于对比文件1和本领域技术人员的公知常识和/或常规技术手段的结合具有突出的实质性特点和显著的进步，具备专利法第22条第3款规定的创造性。
（2）对于权利要求2-8
在权利要求1具备创造性的情况下，直接或间接引用权利要求1的权利要求2-8也具备专利法第22条第3款规定的创造性。
根据以上事实和理由，本案合议组依法作出如下审查决定。
3．关于驳回决定、前置意见和复审通知书
驳回决定中曾经指出：权利要求1与对比文件1的实施例4相比，区别仅在于：本申请的权利要求1使用的附着剂为在末端基含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂0.1-2%重量。上述区别技术特征被对比文件1的其他部分公开并给出了技术启示。因此权利要求1不具备创造性。
前置意见曾经指出：申请人将权利要求2、5的附加技术特征加入权利要求1中，进一步限定了丙烯酸类共聚物中各单体的重量份以及烯烃类单体的成分。（1）关于质量百分含量的计算，对比文件1也提及了各单体的含量的选择考虑到显影性、耐热性、耐化学品性，对组分含量的选择是考虑到上述因素的常规选择，本申请也未给出所述单体的特定比例能够产生意料不到的技术效果的理由和证据。（2）关于烯烃类不饱和化合物的进一步限定，对比文件1说明书中也提及了苯乙烯、丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸2-羟乙酯作为共聚单体；且对比文件1也说明了结构单元a1的含量选择需考虑显影性，本领域技术人员可以根据常规技术手段合理选择合适的单体配比。本申请也未给出采用该特定组成的烯烃类单体能够产生意料不到的技术效果的理由和证据。
复审通知书中曾经指出：权利要求1相对于对比文件1存在4个区别技术特征，这些区别技术特征或者是在对比文件1的其他部分的技术启示下容易想到的、或者属于本领域常规技术手段。因此独立权利要求1不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
对此，合议组认为：针对驳回决定、前置意见和复审通知书中指出的上述缺陷，复审请求人在答复复审通知书时，在权利要求1中增加了技术特征“上述感光剂是：1,2-醌二叠氮4-磺酸酯、1,2-醌二叠氮5-磺酸酯或1,2-醌二叠氮6-磺酸酯”，由此明确体现了权利要求1的组合物是正性的感光树脂组合物、使得权利要求1与对比文件1的实施例4之间形成了区别技术特征（5）：“权利要求1为封闭式权利要求，组合物不含有DPHA单体，也不含光引发剂，而是含有感光剂1~15重量%，上述感光剂是：1,2-醌二叠氮4-磺酸酯、1,2-醌二叠氮5-磺酸酯或1,2-醌二叠氮6-磺酸酯”。而对比文件1实施例4中的组合物为负型感光性树脂组合物，其中的光引发剂组合物和聚合性单体DPHA是该组合物的必要组分。可见，本申请权利要求1和对比文件1实施例4的组合物是两类性质完全不同的组合物，二者的曝光原理和图案形成机理完全不同。在对比文件1实施例4的基础上，本领域技术人员没有动机将该负性感光性树脂组合物中的光引发剂替换为权利要求1中限定的醌叠氮磺酸酯感光剂、也没有动机省略其中的用于在光引发剂的作用下进行聚合的DPHA单体。即：本领域技术人员没有动机将对比文件1的实施例4公开的负性感光树脂组合物改变为权利要求1所限定的正性光致抗蚀剂组合物。同时，也没有证据表明其属于本领域常规技术手段。并且，由于权利要求1的光致抗蚀剂组合物采用了1,2-醌二叠氮4-磺酸酯、1,2-醌二叠氮5-磺酸酯或1,2-醌二叠氮6-磺酸酯作为感光剂，使得曝光部分的丙烯酸类共聚物在显影液中的溶解度增大而形成图案，是一种正性感光树脂组合物，权利要求1配合使用末端含有异氰酸酯基的硅烷偶联剂，使光致抗蚀剂针对氮化硅膜的粘结力优秀，产生了有益的技术效果，从而克服了驳回决定、前置意见和复审通知书中指出的缺陷。
三、决定
撤销国家知识产权局于2018年04月16日对本申请作出的驳回决定。由国家知识产权局专利实质审查部门在本复审请求审查决定所依据的文本的基础上对本申请继续进行审批程序。
如对本复审请求审查决定不服，根据专利法第41条第2款的规定，复审请求人可以自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。
郑重声明：本文版权归原作者所有，转载文章仅为传播更多信息之目的，如作者信息标记有误，请第一时间联系我们修改或删除，多谢。
