发明创造名称：新产品
外观设计名称：
决定号：42567
决定日：2019-12-27
委内编号：4W109113
优先权日：2006-10-28
申请（专利）号：200780048614.5
申请日：2007-10-24
复审请求人：
无效请求人：江苏菲沃泰纳米科技有限公司
授权公告日：2014-08-06
审定公告日：
专利权人：P2I有限公司
主审员：徐建锋
合议组组长：周文娟
参审员：米春艳
国际分类号：C09D4/00，B05D7/24，C08F220/34，C08F238/00
外观设计分类号：
法律依据：专利法第22条第3款
决定要点
：一项权利要求与最接近的现有技术存在区别技术特征，如果现有技术给出了将该区别技术特征应用于该最接近的现有技术中以解决其存在的技术问题的技术启示，那么该权利要求的技术方案是显而易见的，不具备创造性。
全文：
本专利授权公告的权利要求书如下：
“1. 一种设备，所述设备为微加工装置，所述微加工装置包含提供用于容纳流体和流体流动的室和隧道的微米流体或纳米流体装置，其中所述室和隧道均具有至少一个尺寸少于1mm，并且其中在使用所述设备时，所述室和隧道的至少接触液体的整个表面提供通过等离子处理形成的均匀非湿润或非吸收改性聚合物涂层或表面，以及在使用所述设备时所述室和隧道的接触液体的表面具有小于15mNm-1的表面能值，其中为了产生改性涂层或表面，所述装置暴露于初始连续等离子以预处理所述在使用所述设备时所述室和隧道的接触液体的表面，从而一种或多种单体可附着在该表面，然后通过允许进行所述单体聚合的另外的等离子使得所述涂层在该使用所述设备时所述室和隧道的接触液体的表面以具有小于15mNm-1的表面能值的均匀涂层生长。
2. 权利要求1的设备，其中在使用所述设备时，所述室和隧道的至少接触液体的表面具有小于12mNm-1的超低表面能。
3. 权利要求1的设备，其中在使用所述设备时，所述室和道的至少接触液体的表面具有8-10mNm-1的超低表面能。
4. 权利要求1-3中任一项的设备，其中微米流体或纳米流体装置的整个表面提供均匀非湿润或非吸收改性聚合物涂层或表面。
5. 权利要求1-3中任一项的设备，其中允许所述单体聚合的另外的等离子为脉冲等离子。
6. 权利要求1-3中任一项的设备，其中在等离子沉积室内在所述装置上形成所述改性聚合物涂层或表面。
7. 权利要求1-3中任一项的设备，其中一种或多种单体为式(I)的化合物
其中R1、R2和R3独立选自氢、烷基、卤代烷基或任选由卤素取 代的芳基；R4为基团-X-R5，其中R5为烷基或卤代烷基，并且X为键；或X为式-C(O)O-的基团；或X为式-C(O)O(CH2)nY-的基团，其中n为1至10的整数，Y为氨磺酰基；或X为基团-(O)PR6(O)q(CH2)t-，其中R6为任选由卤素取代的芳基，p为0或1，q为0或1，并且t为0或1至10的整数，其条件为当q为1时，t不为0。
8. 权利要求7的设备，其中式(I)的化合物为式(II)的化合物：
CH2=CH-R5 (II)
其中R5如权利要求7所限定，
或式(III)的化合物
CH2=CR7C(O)O(CH2)nR5 (III)
其中n和R5如权利要求7所限定，并且R7为氢、C1-10烷基或CI-10卤代烷基。
9. 权利要求8的设备，其中式(I)的化合物为式(III)的化合物。
10. 权利要求9的设备，其中式(III)的化合物为式(IV)的化合物
其中R7如权利要求8所限定，x为1至9的整数。
11. 权利要求10的设备，其中式(IV)的化合物为丙烯酸1H，1H，2H，2H-十七氟癸酯。
12. 权利要求1-3中任一项的设备，其中一种或多种单体为式(V)的化合物
其中R8、R9、R10、R11、R12和R13全部独立选自氢、卤素、烷基、卤代烷基或任选由卤素取代的芳基；并且Z为桥连基团。
13. 权利要求1-3中任一项的设备，其中一种或多种单体为式(VII)的化合物
其中R16、R17、R18、R19和R20独立选自氢、卤素、烷基、卤代烷基或任选由卤素取代的芳基；R21为基团X-R22，其中R22为烷基或卤代烷基，并且X为键；式-C(O)O(CH2)xY-的基团，其中x为1至10的整数，Y为键或氨磺酰基；或基团-(O)PR23(O)s(CH2)t-，其中R23为任选由卤素取代的芳基，p为0或1，s为0或1，并且t为0或1至10的整数，其条件为当s为1时，t不为0。
14. 权利要求1-3中任一项的设备，其中一种或多种单体为式(VIII)的化合物
R24-C≡C-X1-R25 (VIII)
其中R24为氢、烷基、环烷基、卤代烷基或任选由卤素取代的芳基；
X1为键或桥连基团；并且
R25为烷基、环烷基或任选由卤素取代的芳基。
15. 一种增强液体通过微米流体或纳米流体装置的自由流动性质的方法，所述微米流体或纳米流体装置提供用于容纳流体和流体流动的室和隧道，其中所述室和隧道均具有至少一个尺寸少于1mm，所述方法包括使用微米流体或纳米流体装置，其中由于存在通过等离子处理在上面形成的均匀非湿润或非吸收改性涂层或表面，其中在使用所述设备时，所述室和隧道的至少接触液体的整个表面具有小于15mNm-1的表面能值，其中为了产生改性涂层或表面，所述装置暴露于初始连续等离子以预处理在使用所述设备时所述室和隧道的接触液体的表面，从而一种或多种单体可附着在该表面，然后通过允许进行所述单体聚合的另外的等离子使得该涂层在使用所述设备时所述室和隧道的接触液体的表面以均匀涂层生长。
16. 权利要求15的方法，其中允许所述单体聚合的另外的等离子 为脉冲等离子。
17. 权利要求15的方法，其中所述接触液体的表面已在上面沉积聚合物涂层，所述聚合物涂层通过使所述表面暴露于包含气态式(I)的化合物的脉冲等离子足以允许在表面上形成聚合物层的足够时间来形成，
其中R1、R2和R3独立选自氢、烷基、卤代烷基或任选由卤素取代的芳基；R4为基团-X-R5，其中R5为烷基或卤代烷基，并且X为键；或X为式-C(O)O-的基团；或X为式-C(O)O(CH2)nY-的基团，其中n为1至10的整数，Y为氨磺酰基；或X为基团-(O)PR6(O)q(CH2)t-，其中R6为任选由卤素取代的芳基，p为0或1，q为0或1，并且t为0或1至10的整数，其条件为当q为1时，t不为0。
18. 权利要求15-17中任一项的方法，其中将装置放入等离子沉积室，在所述室内引发辉光放电，并施加电压作为脉冲场。
19. 权利要求18的方法，其中所施加电压的功率为5至500W。
20. 权利要求18的方法，其中电压以接通时间∶断开时间之比为1∶500至1∶1500的序列脉冲。
21. 权利要求20的方法，其中电压以电源接通20-50μs和断开1000μs至30000μs的序列脉冲。
22. 权利要求18的方法，其中电压作为脉冲场施加30秒至90分钟。
23. 权利要求22的方法，其中电压作为脉冲场施加5至60分钟。
24. 权利要求15的方法，其中初始连续等离子在惰性气体存在下进行。
25. 权利要求18的方法，其中在施加脉冲电压的同时将气态的一种或多种单体以80-300mg／min的速率加入等离子。
26. 权利要求15-17中任一项的方法，其中等离子用处于0.001至 500w／m3平均功率的电压产生。
27. 权利要求26的方法，其中等离子用处于0.001至100w／m3平均功率的电压产生。
28. 权利要求27的方法，其中等离子用处于0.005至0.5w／m3平均功率的电压产生。
29. 权利要求17的方法，其中式(I)的化合物为式(II)的化合物
CH2=CH-R5 (II)
其中R5如权利要求17所限定，
或式(III)的化合物
CH2=CR7C(O)O(CH2)nR5 (III)
其中n和R5如权利要求17所限定，并且R7为氢、C1-10烷基或C1-10卤代烷基。
30. 权利要求29的方法，其中式(I)的化合物为式(III)的化合物。
31. 权利要求30的方法，其中式(III)的化合物为式(IV)的化合物
其中R7如权利要求29所限定，x为1至9的整数。
32. 权利要求31的方法，其中式(IV)的化合物为丙烯酸1H，1H，2H，2H-十七氟癸酯。”
请求人于2019年6月24日向国家知识产权局提出无效宣告请求，其理由是：权利要求1-9、12-30不符合专利法第26条第4款的规定，权利要求1-32不符合专利法第22条第3款的规定，请求宣告本专利权利要求1-32全部无效。同时请求人提交了如下证据以支持其主张：
证据1：CN1798682A；
证据2：“Laminar fully-developed flow in a microchannel with patterned ultraphydrophobic walls”，B. Woolford等，Proceedings of HT2005，2005 ASME Summer Heat Transfer Conference，July 17-22，2005，San Francisco，California，USA，复印件及其部分中文译文，共10页；
证据3：CN1642664A；
证据4：CN1649887A；
证据5：CN1427742A；
证据6：WO2005/089961A1及其部分中文译文；
证据7：CA2302118A1及其部分中文译文；
证据8：US6551950B1及其部分中文译文；
证据9：“Nanobiotechnology: Concepts, Application and Perspectives”，第2章，第13-30页及其部分中文译文；
证据10：CN1312870A；
证据11：CN1320062A；
证据12：WO00/20130A1及其部分中文译文。
专利权人针对上述无效宣告请求未提交任何意见，并提交口头审理通知书回执，明确表示不参加口头审理。
国家知识产权局举行了口头审理，请求人的专利代理师康必显及委托代理人赵青朵、叶子浓出席了口头审理。口审中确认的事实如下：请求人明确无效请求的理由和范围与请求书一致，其中关于创造性的证据使用方式包括：权利要求1和15相对于证据1、证据7以及公知常识的结合不具备创造性；从属权利要求2-14和16-32的附加技术特征或被证据1、证据4、证据6、证据7、证据10-12公开，或者属于本领域的常规选择，因此也不具备创造性。
至此，合议组认为本案事实已经清楚，可以作出审查决定。
二、决定的理由
（一）、关于法律适用
根据《施行修改后的专利法的过渡办法》，本案的审查适用2001年7月1日起施行的《中华人民共和国专利法》（简称专利法）。
（二）、关于审查基础
本决定以本专利授权公告的权利要求书为审查基础作出。
（三）、关于证据
请求人使用了证据1、证据4、证据6、证据7、证据10-12评述本专利的创造性，其均为专利文献，专利权人未对上述证据的真实性以及证据6、证据7和证据12的中文译文的准确性提出异议。经审查，合议组对上述证据的真实性予以确认，且其公开日期均在本专利的优先权日之前，可以作为本专利的现有技术使用，其中证据6、证据7和证据12的内容以其中文译文为准。
（四）、关于专利法第22条第3款
专利法第22条第3款规定：创造性，是指同申请日以前已有的技术相比，该发明有突出的实质性特点和显著的进步。
一项权利要求与最接近的现有技术存在区别技术特征，如果现有技术给出了将该区别技术特征应用于该最接近的现有技术中以解决其存在的技术问题的技术启示，那么该权利要求的技术方案是显而易见的，不具备创造性。
1、关于权利要求1-14
权利要求1要求保护一种设备。本专利中该设备为在接触液体的整个表面具有通过等离子沉积形成的均匀非湿润或非吸收改性聚合物涂层或表面的微加工装置，所述涂层和表面可以增强液体在微加工装置中的自由流动性质，提高微加工装置的可靠性和稳健性。
证据1公开了一种在硅主体上形成圆筒形微流道制造的微流体装置（参见其说明书第13页实施例1，第4页倒数第1段，第2页第2段），在微流道的朝内壁上设有超憎液表面，流道壁还涂有有机硅烷（即非湿润或非吸收改性聚合物涂层），以使流道具有如下尺寸和特征：R=1微米（即流道半径），γ=0.073N/m（即表面张力，相当于本专利的表面能值）；“微流体装置”泛指可用来接触、处理、输送、容纳、加工或运送流体的其它任何装置或组件，其中流体流过一条或多条微流体流道，“微”是指等于或小于500μm的尺寸；其中，任何微流体装置的全部或任一部分流体流道都具有持久耐用的超憎液体的接触表面，满足了工业上对其流体流道具有可预测的、最佳流体流动阻力大小的微流体装置的需求。
由此可见，证据1已经公开了一种微加工装置，其接触液体的流道内设有超憎液表面并且涂有有机硅烷涂层，从而获得低流体流动阻力，即其同样具有增强的液体自由流动性质。权利要求1中微加工装置包含微米流体装置的技术方案与证据1相比，区别在于：权利要求1中限定微加工装置包含用于容纳流体和流体流动的室和隧道，而证据1的微流体装置中设置的为微流道；权利要求1中接触液体的改性涂层或表面的表面能值低于证据1，并限定了该改性涂层或表面的具体产生方法。
经审查，合议组认为：基于上述区别技术特征，权利要求1相对于对比文件1实际解决的技术问题是进一步提高液体在微加工装置中的自由流动性质。
证据1中公开了“微流体装置”泛指可用来接触、处理、输送、容纳、加工或运送流体的其它任何装置或组件，其中流体流过一条或多条微流体流道。因此，在证据1的基础上，根据需要在微流体装置设置容纳流体的室和使流体流动的隧道来输送、容纳和运送流体为常规设计。
证据1说明书第6页公开了液体段塞100通过水平微筒形流道的压力为：
，
由此可知，降低表面张力γ可以减小微通道表面对流动流体的阻力，因此，本领域技术人员有动机选择表面能更小的涂层作为微流体装置的表面涂层，从而进一步提高液体在微加工装置中的自由流动性质。
证据7公开了一种结构化表面（参见其译文第1-2页），其包括小于35mN/m的非结构化材料的表面能，该结构化表面可以用于生产具有液体传导系统的样品容器（微流体）；并且还具体公开了表面在疏液区具有疏水性的条件为非结构化材料具有低于35mN/m的表面自由能，优选为10-20mN/m，当该材料具有小于20mN/m的表面自由能时，进一步具有疏油性；其中涂覆具有表面能小于35mN/m的材料是通过氟代烯烃或乙烯基化合物的等离子体聚合实现的；此外，可以通过等离子体对表面活化，产生自由基，以使单体在其上聚合，这种步骤产生机械上特别耐磨的涂层。
由此可见，证据7公开一种应用于结构化表面的涂层材料，其优选具有10-20mN/m的表面自由能以获得更好的疏水性能，并且证据7还教导了通过等离子体聚合实现该材料的涂覆，以及在等离子聚合之前通过等离子体对表面活化可以提高涂层性能。证据7与证据1均涉及微流体装置，两者的技术领域相同，且涂层材料在两者中均用于使结构化表面具有更优的疏水性，因此，在需要为证据1选择表面能更小的涂层以提高液体在微加工装置中的自由流动性质时，本领域技术人员有动机将证据7的低表面自由能涂层以及相应的制备方法用于证据1。至于权利要求1中限定使用连续等离子预处理表面，是本领域技术人员根据表面活化的目的和等离子工艺的处理强度进行的常规选择，在此基础上，权利要求1限定具体产生改性涂层或表面的步骤均是显而易见的。
对于权利要求1中微加工装置包含纳米流体装置的技术方案，在证据1的基础上，根据需要选择纳米级的微流道，从而获得纳米流体装置对于本领域技术人员而言也是显而易见的。
综上所述，权利要求1的技术方案相对于证据1、证据7和公知常识的结合是显而易见的，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
权利要求2和3的附加技术特征已被证据7公开。
对于权利要求4，为了便于加工，在满足使用需要的情况下，在装置的整个表面均提供均匀非润湿或非吸收改性聚合物涂层或表面对本领域技术人员而言是显而易见的。
对于权利要求5和6，证据6公开了一种在基体上沉积聚合物的方法（参见其中文译文第1页），包括将气态单体材料引入等离子体沉积室中，在等离子体沉积室中引发辉光放电，用足够长的时间施加作为脉冲场的电压（即脉冲等离子），以在基体的表面上形成聚合物层。由此可见，证据6给出了如何具体利用等离子体沉积形成聚合物层的技术启示，本领域技术人员有动机将其方法用于证据1以形成其涂层。
对于权利要求7-11，证据6中公开了其中限定的化合物（参见其中文译文第1-2页），且其与证据7中的涂层材料类似，本领域技术人员有动机将其用于证据1以形成所需的涂层。
权利要求12-14限定的化合物分别被证据10-12公开（参见其中文译文），其在证据10-12中均用于通过等离子体处理在基体上形成涂层，且与证据7中的涂层材料类似，本领域技术人员同样有动机将其用于证据1以形成所需的涂层。
综上所述，结合对权利要求1的评述，权利要求2-14的技术方案对于本领域技术人员而言也是显而易见的，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
2、关于权利要求15-32
权利要求15要求保护的主题为一种增强液体通过微米流体或纳米流体装置的自由流动性质的方法，其限定的具体特征与权利要求1相同。而证据1的微加工装置，其接触液体的流道内设有超憎液表面并且涂有有机硅烷涂层，从而获得低流体流动阻力，即其同样具有增强的液体自由流动性质。因此，证据1实质上也公开了一种增强液体通过微加工装置的自由流动性质的方法。结合对权利要求1的评述，权利要求15的技术方案相对于证据1、证据7和公知常识的结合是显而易见的，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
参见对权利要求5-11的评述，权利要求16-18和29-32的附加技术特征已被证据6公开，证据6给出了相应的技术启示。
对于权利要求19-23和26-28，证据6公开了（参见其中文译文第1-3页）施加的电场适宜为至多500W功率的脉冲场，适宜约为40W；该脉冲场的接通时间：断开时间的比率为1:500-1:1000，具体实例是其中电源接通为20μs，电源断开为1000-20000μs；电场适宜施加30秒-90分钟，优选5-60分钟；以0.001-500w/m3的功率施加作为脉冲场的电压，进一步所施加的功率为0.04-100w/m3。由此可见，证据6给出了采用相应技术参数的技术启示，本领域技术人员有动机将其用于证据1以制备所需的涂层。
对于权利要求24，证据4公开了一种制备用于排列生物分子或细胞的基底的方法（参见其权利要求1和9以及说明书实施例1），包括通过化学等离子体介导的聚合方法在表面上沉积聚合物涂层，其包括首先在氩、氦或其他稀有气体等离子体中处理基底，然后将单体或聚合物引入等离子体室中，使单体或聚合物与基底反应。由此可见，证据4给出了在等离子聚合沉积涂层之前通过在惰性气体存在下对基底进行等离子体预处理的技术启示，对于选择连续等离子处理，则是本领域技术人员根据表面活化的目的和等离子工艺的处理强度进行的常规选择。
对于权利要求25，证据6公开了（参见其中文译文第2页倒数第2段）单体气体与载气的比率适宜为100:1-1:100，气体或气体混合物适宜以至少1标准立方厘米/分钟（sccm）并优选1-100sccm的速率供应，在此基础上，本领域技术人员容易选择合适的单体加入速率，且权利要求25选择的加入速率所产生的效果是可以预期的。
综上所述，结合对权利要求15的评述，权利要求16-32的技术方案对于本领域技术人员而言也是显而易见的，不具备专利法第22条第3款规定的创造性。
鉴于本专利权利要求1-32均不具备创造性，应予全部无效，故对于请求人的其他无效理由和证据使用方式本决定不再予以评述。
基于以上事实和理由，合议组依法作出如下决定。
三、决定
宣告第200780048614.5号发明专利权全部无效。
当事人对本决定不服的，可以根据专利法第46条第2款的规定，自收到本决定之日起三个月内向北京知识产权法院起诉。根据该款的规定，一方当事人起诉后，另一方当事人可以作为第三人参加诉讼。
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